[发明专利]热处理装置

权利要求书

1.一种热处理装置，其特征在于，具备制冷剂通道形成体，该制冷剂通道形成体用于形成向通过沿特定输送方向的输送路径的被处理物供给特定制冷剂的制冷剂通道，

所述制冷剂通道形成体包含两个以上的制冷剂通道形成构件，

两个以上的所述制冷剂通道形成构件构成为，沿着与所述输送方向交叉的特定的交叉方向相互接近地进行位移，由此以收纳所述被处理物的状态形成所述制冷剂通道，并且构成为，沿着所述交叉方向相互隔离地进行位移，由此允许沿着所述输送方向的所述被处理物相对于所述制冷剂通道进出，

所述制冷剂通道形成体包含：作为所述制冷剂通道形成构件的上侧构件、配置于该上侧构件的下方的下侧构件、和载置有所述被处理物的输送托盘，

构成为：所述下侧构件、所述输送托盘和所述上侧构件在作为所述交叉方向的上下方向重叠，所述上侧构件和所述下侧构件上下夹持所述输送托盘，从而通过所述下侧构件、所述输送托盘和所述上侧构件形成所述制冷剂通道。

2.如权利要求1所述的热处理装置，其特征在于，

所述上侧构件和所述下侧构件均形成为筒状，在所述上下方向相互接近，从而将所述被处理物的整个周围包围，

所述输送托盘包含：被所述上侧构件和所述下侧构件夹持的框部、形成于该框部的内侧并用于支撑所述被处理物的支撑部、和形成于该框部的内侧并使所述制冷剂通过的孔部。

3.如权利要求1所述的热处理装置，其特征在于，

进一步具备：输送部，其用于沿着所述输送方向输送所述输送托盘；和

上下位移机构，其用于使所述上侧构件和所述输送部相对于所述下侧构件在所述上下方向联锁地进行位移，

所述上下位移机构通过使载置有所述输送托盘的所述输送部和所述上侧构件位移至所述下侧构件侧，从而使所述下侧构件、所述输送托盘和所述上侧构件在所述上下方向重叠。

4.如权利要求3所述的热处理装置，其特征在于，

进一步具备输送机构，其用于使所述输送托盘沿着所述输送方向位移，

所述输送机构具有如下构成的单元，该单元能够利用所述上下位移机构位移到特定的输送位置和特定的冷却位置，

所述单元在所述输送位置以所述输送托盘与所述上侧构件和所述下侧构件隔离的方式支撑所述输送托盘，并且，在所述冷却位置以所述输送托盘与所述下侧构件接触的方式配置所述输送托盘。

5.如权利要求4所述的热处理装置，其特征在于，

所述上下位移机构构成为：在所述输送托盘位于所述冷却位置时，为了使所述上侧构件与所述输送托盘接触而使所述上侧构件位移。

6.如权利要求1～5中任一项所述的热处理装置，其特征在于，

进一步具备整流构件，其用于在所述制冷剂通道内对所述制冷剂进行整流。