[发明专利]用于光刻法中的光刻胶清洁组合物及其用于处理衬底的方法

权利要求书

1.一种用于剥离膜厚度为3-150μm的光刻胶图案的光刻胶清洁组合物，所述组合物包含(a)0.5-5质量％的至少一种季铵氢氧化物或者两种或更多种季铵氢氧化物的混合物；(b)60-97.5质量％的水溶性有机溶剂与至少一种另外的有机溶剂或者两种或更多种另外的有机溶剂的混合物，所述水溶性有机溶剂包含二甲亚砜(DMSO)、环丁砜或二甲基砜或者其混合物；(c)0.5-15质量％的至少一种腐蚀抑制剂或者两种或更多种腐蚀抑制剂的混合物；和(d)0.5-25质量％的水；其中所述腐蚀抑制剂包含聚乙烯亚胺。

2.根据权利要求1所述的光刻胶清洁组合物，所述组合物包含(a)0.5-5质量％的至少一种季铵氢氧化物或者两种或更多种季铵氢氧化物的混合物；(b)82-97.5质量％的水溶性有机溶剂与至少一种另外的有机溶剂或者两种或更多种另外的有机溶剂的混合物，所述水溶性有机溶剂包含二甲亚砜(DMSO)、环丁砜或二甲基砜或者其混合物；(c)1-5质量％的至少一种腐蚀抑制剂或者两种或更多种腐蚀抑制剂的混合物；和(d)1-10质量％的水。

3.根据权利要求1所述的光刻胶清洁组合物，其中(b)包含80-96质量％的所述二甲亚砜(DMSO)、环丁砜或二甲基砜或者其混合物，及1-4质量％的所述至少一种另外的有机溶剂或者两种或更多种另外的有机溶剂；且所述(c)占1-5质量％；和所述(d)占1-10质量％。

4.根据权利要求2所述的光刻胶清洁组合物，其中所述(c)包含两种或更多种腐蚀抑制剂的混合物，该混合物包含聚乙烯亚胺。

5.根据权利要求1所述的光刻胶清洁组合物，其中所述(b)包含80-96质量％的二甲亚砜(DMSO)、环丁砜或二甲基砜或者其混合物，及1-4质量％的至少一种另外的有机溶剂或者两种或更多种另外的有机溶剂；其中所述(c)是1-10质量％的至少一种腐蚀抑制剂或者两种或更多种腐蚀抑制剂的混合物，该混合物包含聚乙烯亚胺；和所述(d)是1-10质量％。

6.根据权利要求1所述的光刻胶清洁组合物，其中所述(b)包含35-50质量％的二甲亚砜(DMSO)、环丁砜或二甲基砜或者其混合物及45-58质量％的另外的有机溶剂或者两种或更多种另外的有机溶剂；所述(c)是1-10质量％；和所述(d)是1-10质量％。

7.根据权利要求1所述的光刻胶清洁组合物，其中所述(a)是1-5质量％；所述(b)是78-85质量％；所述(c)是10.5-15质量％；和所述(d)是1-10质量％。

8.根据权利要求1所述的光刻胶清洁组合物，其中所述(a)是1-5质量％；所述(b)是59-84质量％的二甲亚砜(DMSO)、环丁砜或二甲基砜或者其混合物及1-20质量％的至少一种另外的有机溶剂或者两种或更多种另外的有机溶剂；所述(c)是10.5-15质量％；和所述(d)是1-10质量％。

9.一种用于剥离膜厚度为3-150μm的光刻胶图案的光刻胶清洁组合物，所述组合物包含(a)1-5质量％的至少一种季铵氢氧化物或者两种或更多种季铵氢氧化物的混合物；(b)78-85质量％的水溶性有机溶剂与至少一种另外的有机溶剂或者两种或更多种另外的有机溶剂的混合物，所述水溶性有机溶剂包含二甲亚砜(DMSO)、环丁砜或二甲基砜或者其混合物；(c)10-20质量％的二乙基羟胺(DEHA)、羟胺或二丙基羟胺或者其盐或其混合物及0.5-5质量％的至少一种另外的腐蚀抑制剂或者两种或更多种另外的腐蚀抑制剂的混合物；和(d)1-10质量％的水；其中所述腐蚀抑制剂包含聚乙烯亚胺。

10.根据权利要求9所述的光刻胶清洁组合物，其中所述(c)是10-20质量％的二乙基羟胺(DEHA)、羟胺或二丙基羟胺或者其盐或其混合物及1-4或1-3质量％的至少一种另外的腐蚀抑制剂或者两种或更多种另外的腐蚀抑制剂的混合物。