[发明专利]光声测量装置及光声测量装置的信号处理方法有效
申请号: | 201680052467.8 | 申请日: | 2016-09-21 |
公开(公告)号: | CN108024794B | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 桥本温之;入泽觉;大泽敦;井上知己 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | A61B8/13 | 分类号: | A61B8/13 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 黄纶伟;韩香花 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测量 装置 信号 处理 方法 | ||
1.一种光声测量装置,其特征在于,具有:
探头,具有:光射出部,其向受检体射出测定光;及声波检测部,其与该光射出部并排设置,并检测通过所述测定光的射出而在所述受检体内产生的光声波;
图像生成部,其根据所述声波检测部所输出的光声波检测信号来生成光声图像;
区域判别机构,其至少根据所述光射出部与所述声波检测部之间的位置关系来判别所述光声图像中的伪影产生区域和伪影非产生区域;及
滤波器机构,其对所述光声波检测信号中与所述区域判别机构所判别的伪影非产生区域的光声图像对应的第一光声波检测信号进行第一滤波处理,且对所述光声波检测信号中与所述区域判别机构所判别的伪影产生区域的光声图像对应的第二光声波检测信号进行第二滤波处理,
与所述第一滤波处理相比,所述第二滤波处理更多地减少低于规定频率的频率范围的光声波检测信号。
2.根据权利要求1所述的光声测量装置,其中,
所述滤波器机构包括进行带通滤波处理的带通滤波器,
与作为所述第一滤波处理的所述带通滤波处理的低频率侧的截止频率相比,在作为所述第二滤波处理的所述带通滤波处理中,将低频率侧的截止频率设定于更高频率侧。
3.根据权利要求1所述的光声测量装置,其中,
所述滤波器机构包括进行高通滤波处理的高通滤波器,
与作为所述第一滤波处理的所述高通滤波处理相比,在作为所述第二滤波处理的所述高通滤波处理中,将截止频率设定于更高频率侧。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的光声测量装置,其中,
所述区域判别机构根据将所述光射出部与所述声波检测部之间的位置关系与所述伪影产生区域及伪影非产生区域的边界对应起来的对应表来判别所述伪影产生区域和伪影非产生区域。
5.根据权利要求1至3中任意一项所述的光声测量装置,其中,
所述区域判别机构基于所述光射出部与所述声波检测部之间的位置关系,通过计算所述伪影产生区域及伪影非产生区域的边界的计算式来判别所述伪影产生区域和伪影非产生区域。
6.根据权利要求1至3中任意一项所述的光声测量装置,其中,
所述区域判别机构按照传播所述光声波的受检体的部位的声速来校正所述判别。
7.根据权利要求1至3中任意一项所述的光声测量装置,其中,
所述滤波器机构对与设定于包括所述伪影非产生区域及伪影产生区域的边界的范围内的至少一个边界区域有关的光声波检测信号进行低频侧的截止频率与所述第一滤波处理及所述第二滤波处理不同的边界区域用滤波处理。
8.根据权利要求7所述的光声测量装置,其中,
所述边界区域用滤波处理的低频侧的滤波频率处于所述第一滤波处理的低频侧的滤波频率与所述第二滤波处理的低频侧的滤波频率之间。
9.根据权利要求8所述的光声测量装置,其中,
所述边界区域用滤波处理的通过特性是根据所述第一滤波处理的通过特性和所述第二滤波处理的通过特性,按照所述边界区域的受检体深度方向位置来规定的。
10.根据权利要求1至3中任意一项所述的光声测量装置,其还具备由下述的信号构成与设定于包括所述伪影非产生区域及伪影产生区域的边界的范围内的至少一个边界区域有关的图像的机构,所述信号是按照所述边界区域的受检体深度方向位置,对接受了所述第一滤波处理的所述第一光声波检测信号和接受了所述第二滤波处理的所述第二光声波检测信号进行加权相加而得到的。
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