[发明专利]制造经涂布的基底的方法、经涂布的基底及其用途、以及用于制造经涂布的基底的系统在审
申请号: | 201680052863.0 | 申请日: | 2016-07-13 |
公开(公告)号: | CN108367310A | 公开(公告)日: | 2018-08-03 |
发明(设计)人: | 马蒂亚斯·科赫 | 申请(专利权)人: | HEC高端涂料有限公司 |
主分类号: | B05D1/00 | 分类号: | B05D1/00;C23C14/02;C23C16/50;C23C28/00;B05D3/00;B05D3/14;C23C14/58;C23C14/20;C23C14/16 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;洪欣 |
地址: | 德国阿*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚硅氧烷层 金属层 外涂层 基底 有机硅化合物 等离子加工 等离子聚合 非金属基质 电晕处理 金属基质 使用应用 应用 制造 等离子发生器 等离子生成器 塑料基质 应用金属 应用系统 透明 基质 | ||
本发明涉及用于制造经涂布的非金属基质,尤其是塑料基质的方法;所述方法包括使用应用系统来应用至少一层金属层,使用至少一种有机硅化合物处理所得到的金属层,尤其是使用等离子聚合进行处理,以形成聚硅氧烷层,对于所述聚硅氧烷层使用等离子发生器进行等离子加工和/或进行电晕处理,以及将外涂层、尤其是透明外涂层应用至经处理的聚硅氧烷层。本发明还涉及用于制造经涂布的金属基质的方法;所述方法包括使用应用系统来应用至少一层金属层,使用至少一种有机硅化合物处理金属层,尤其是使用等离子聚合进行处理,以形成聚硅氧烷层,对于所述聚硅氧烷层使用等离子生成器进行等离子加工和/或进行电晕处理,并将外涂层、尤其是透明外涂层应用至经处理的聚硅氧烷层。另外,本发明涉及根据所公开的方法可获得的或能够获得的非金属基质,以及根据所公开的方法可获得的或能够获得的金属基质。最后本发明涉及用于应用金属层的应用系统以及所公开的基质的用途。
本发明涉及制造经涂布的基底的方法、可以通过这些方法得到的经涂布的基底、以及这些经涂布的基底的用途。本发明也涉及用于制造经涂布的基底的系统。
经常使用金属和非金属组分进行涂布以产生光滑和/或光亮的表面。通常,其涉及多层涂层系统。除了希望得到具有高质量的吸引人的外观的表面之外,具有此类涂布系统的发明也通常实现了显著的腐蚀防护。通常,由于机械损伤,长期的腐蚀防护无作用。在很多情况下,即使是非常微小的损伤也会引起经涂布的表面的腐蚀。除了褪色之外,这也可以导致渗透现象。通常,这进而导致涂布区域的剥落。不缺乏目的在于使经涂布的光亮表面抵抗腐蚀的实验。例如,DE 123765A1描述了在金属表面上产生腐蚀防护层的方法,其中使用了基于硅化合物的溶胶、氨基烷基官能化的烷氧基硅烷或两种前述组分的转化产物。
根据DE 38 33 119 C2,通过直接在铬化层上沉积、不进行中间干燥的电沉积涂布,得到了非常好地附着在基质上的腐蚀防护的铬化金属表面。
然而金属基质的腐蚀防护涂层仍然表现出改善附着和腐蚀防护的巨大潜力,尤其是对于大量生产的产物,尤其是具有复杂几何形状的那些产物。
因此本发明基于以下目的:提供不再由于现有技术的缺陷而受损(并且尤其是针对大量生产)的经涂布的基底,提供具有改善的腐蚀防护和/或非常好的附着性质的经涂布的产物。本发明还意在提供在机械表面损伤(尤其是不与层的剥落有关的机械表面损伤)时不立即表现出渗透现象的此类经涂布的产物。本发明还基于以下目的:得到即使具有复杂的几何形状仍然在整个组件(包括沿着边缘长度的区域)表现出均匀高质量的涂布结果的经涂布的基底。
因此,已经得到了用于制造经涂布的非金属基质、尤其是经涂布的塑料基质的方法,所述方法包括:
a)提供非金属基质,尤其是塑料基质,所述基质具有能够在至少一部分区域被涂布的至少一个表面,
b)提供用于应用金属层的应用系统,尤其是真空气相沉积系统或溅射系统,
c)提供至少一个等离子发生器和/或至少一个电晕系统,尤其是在用于应用金属层的应用系统(例如真空气相沉积系统或溅射系统)中提供,或作为其组件,
d)适当时,对于非金属基质,尤其是塑料基质,或者对于非金属基质的可涂布表面,尤其是塑料基质的可涂布表面,使用等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理,
e)适当时,使用至少一种有机硅化合物处理步骤a)或d)获得的非金属基质,尤其是塑料基质,或者处理所述非金属基质的可涂布表面,尤其是所述塑料基质的可涂布表面,尤其是通过等离子聚合的方式进行处理,由此形成聚硅氧烷层,
f)适当时,对于步骤e)的聚硅氧烷层使用等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理,
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