[发明专利]具有正面涂层的光敏像素结构有效

专利信息
申请号: 201680052925.8 申请日: 2016-09-14
公开(公告)号: CN108025171B 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 马丁·德特尔 申请(专利权)人: PIXIUM视野股份公司
主分类号: A61N1/05 分类号: A61N1/05;H01L27/146
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 谢攀;刘继富
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 正面 涂层 光敏 像素 结构
【权利要求书】:

1.一种植入物,其包括至少一个包括衬底(15)和界面层(50)的光敏像素结构(10),其中,所述界面层(50)至少设置在所述衬底(15)的前表面的一部分上,并且其中,所述界面层(50)至少部分地包括第一材料层(51),并且所述界面层(50)至少部分地包括覆盖所述第一材料层(51)的第二材料层(52),使得所述第一材料层(51)至少部分地被夹在所述第二材料层(52)和所述衬底(15)之间,其中,所述第二材料层(52)的厚度为200nm-600nm。

2.根据权利要求1所述的植入物,其中,所述第一材料层(51)是氧化物层。

3.根据权利要求1或2中的一项所述的植入物,其中,所述第二材料层(52)包括陶瓷或类陶瓷材料层,或所述第二材料层(52)包括聚合物层。

4.根据权利要求3所述的植入物,其中,所述陶瓷或类陶瓷材料层包括SiC、类金刚石、金刚石、氧化铝或氧化钛中的至少一种。

5.根据权利要求3所述的植入物,其中,所述聚合物层包括硅树脂、聚对二甲苯、聚酰亚胺或聚氨酯中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的植入物,其特征在于,所述第一材料层(51)的厚度小于100nm。

7.根据权利要求1所述的植入物,其特征在于,所述第一材料层(51)的厚度在200nm-400nm之间。

8.根据权利要求1所述的植入物,其特征在于,至少在所述衬底(15)的后表面的一部分上设置至少一个附加材料层,其中,所述附加材料层包括反射层。

9.根据权利要求1所述的植入物,其包括被布置成像素阵列的多个光敏像素结构(10)。

10.根据权利要求1所述的植入物,其中,所述植入物是视网膜下植入物。

11.根据权利要求1所述的植入物,其中,所述第二材料层(52)的厚度为300nm-500nm。

12.根据权利要求1所述的植入物,其中,所述第二材料层(52)的厚度为320nm-450nm。

13.根据权利要求2所述的植入物,其中,所述第一材料层(51)是包含SiO2的层。

14.根据权利要求6所述的植入物,其特征在于,所述第一材料层(51)的厚度小于60nm。

15.根据权利要求6所述的植入物,其特征在于,所述第一材料层(51)的厚度在10nm与60nm之间。

16.根据权利要求7所述的植入物,其特征在于,所述第一材料层(51)的厚度在250nm-350nm之间。

17.根据权利要求7所述的植入物,其特征在于,所述第一材料层(51)的厚度为300nm。

18.一种用于提供根据权利要求1-17中一项所述的植入物的光敏像素结构(10)的方法,包括步骤:

-提供衬底(15),

-至少在所述衬底(15)的前表面的一部分上设置界面层(50),并且其中,所述界面层(50)至少部分地包括第一材料层(51)并且所述界面层(50)至少部分地包括覆盖所述第一材料层(51)的第二材料层(52),使得所述第一材料层(51)被夹在所述第二材料层(52)和所述衬底(15)之间。

19.根据权利要求18所述的方法,其中,所述第一材料层(51)是通过热生长沉积的氧化物层。

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