[发明专利]参考方案中的测量时间分布

权利要求书

1.一种用于在采样界面处确定样本中的物质的浓度和类型的系统，所述系统包括：

光源，所述光源被配置为发射第一光和第二光，所述第一光入射在所述采样界面上，并且所述第二光入射在参考对象上，其中所述第一光和所述第二光包括噪声分量；

一个或多个检测器像素，所述一个或多个检测器像素包括第一检测器像素，其中所述一个或多个检测器像素被配置为在包括第一周期和第二周期的多个周期中工作，每个周期包括多个测量状态，所述多个测量状态包括：

第一测量状态，所述第一测量状态被配置为在第一时间段期间测量所述样本中的所述物质的一个或多个光学属性，

第二测量状态，所述第二测量状态被配置为在第二时间段期间测量参考对象的一个或多个光学属性，和

第三测量状态，所述第三测量状态被配置为在第三时间段期间测量所述噪声分量；和

逻辑部件，所述逻辑部件被配置为至少部分基于与所述多个测量状态相关联的一个或多个测量参数从第一周期到第二周期动态地改变第一时间段、第二时间段和第三时间段中每一个的持续时间。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述一个或多个检测器像素还包括第二检测器像素，所述第一检测器像素被配置为处于所述第一测量状态，并且所述第二检测器像素同时被配置为处于所述第二测量状态。

3.根据权利要求2所述的系统，其中所述一个或多个检测器像素还包括第三检测器像素，所述第三检测器像素同时被配置为处于所述第三测量状态。

4.根据权利要求2所述的系统，还包括：

多个反射镜，每个反射镜与包括在所述一个或多个检测器像素中的检测器像素相关联并且被配置为具有使得所述第一光的一部分被反射或阻挡的取向，并且被进一步配置为向第二光提供对于所述相关联的检测器像素的访问。

5.根据权利要求1所述的系统，还包括：

检测器像素，所述检测器像素被配置为在所述第一测量状态、所述第二测量状态和所述第三测量状态下连续地工作，其中

所述逻辑部件被进一步配置为基于所述第一测量状态、所述第二测量状态和所述第三测量状态来确定物质的浓度和类型。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一检测器像素被配置为处于所述第一测量状态并且被配置为生成指示所述第一入射光的第一信号，并且

其中所述一个或多个检测器像素包括第二检测器像素，所述第二检测器像素被配置为处于所述第三测量状态并且被配置为生成指示所测量的噪声分量的第二信号，

其中所述逻辑部件被进一步配置为缩放所述第二信号以及使用所缩放的第二信号来补偿所述第一信号。

7.根据权利要求6所述的系统，其中所述第一检测器像素的增益与所述第二检测器像素的增益不同。

8.根据权利要求7所述的系统，其中所述第一光的强度与所述第二光的强度不同。

9.根据权利要求1所述的系统，其中与所述多个测量状态相关联的所述一个或多个测量参数包括以下中的一个或多个：样本信号值、参考信号值、噪声水平、工作波长、定义的信噪比或与检测器像素相关联的测量位置。

10.一种在多个周期期间在采样界面处确定样本中的物质的浓度和类型的方法，所述多个周期包括第一周期和第二周期，所述方法包括：

在所述第一周期期间：

在第一时间段期间测量所述采样界面中的所述物质的一个或多个光学属性；

在第二时间段期间测量参考对象的一个或多个光学属性；

在第三时间段期间测量噪声分量；以及

从第一周期到第二周期动态地改变所述第一时间段、所述第二时间段和所述第三时间段中的至少一者的持续时间。

11.根据权利要求10所述的方法，其中在所述第一周期内所述第一时间段、所述第二时间段和所述第三时间段中的至少两者的持续时间不同。