[发明专利]精密施用装置有效
申请号: | 201680053102.7 | 申请日: | 2016-09-22 |
公开(公告)号: | CN108024616B | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | S·K·斯坦利;M·萨巴;A·P·拉帕赫 | 申请(专利权)人: | 宝洁公司 |
主分类号: | A45D44/00 | 分类号: | A45D44/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 樊云飞;江磊 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 精密 施用 装置 | ||
1.一种自承施用装置,所述自承施用装置的特征在于包括:
a.第一结构元件,所述第一结构元件具有从目标结构确定的形状;所述第一结构元件包括活性剂;
所述第一结构元件还包括标记,所述标记是根据从对所述目标结构的诊断扫描所得的数据定位的。
2.根据权利要求1所述的自承施用装置,其中所述形状是根据对所述目标结构的扫描确定的。
3.根据前述权利要求中任一项所述的自承施用装置,其中所述活性剂是根据对所述目标结构的诊断扫描设置的。
4.根据权利要求1或2所述的自承施用装置,其中所述施用装置的贴合比为大于0.5。
5.根据权利要求1或2所述的自承施用装置,其中所述活性剂可释放地附接到所述施用装置。
6.根据权利要求1或2所述的自承施用装置,其中所述施用装置的一部分包括弹性体材料。
7.根据权利要求1或2所述的自承施用装置,其中所述施用装置的一部分包括铰链。
8.根据权利要求1所述的自承施用装置,所述自承施用装置还包括第二结构元件,所述第二结构元件的至少一部分包括从对所述目标结构的三维扫描确定的形状,所述第二结构元件邻近所述第一结构元件设置,其中至少一个空间腔体具有限定的体积和位置,至少部分地由所述第一结构元件的部分和所述第二结构元件的部分限定的腔体体积设置在所述第一结构元件和所述第二结构元件之间。
9.根据权利要求8所述的自承施用装置,所述自承施用装置还包括设置在所述至少一个空间腔体中的活性剂。
10.根据权利要求8或9中任一项所述的自承施用装置,其中所述腔体体积和所述位置中的至少一者是根据所述诊断扫描确定的。
11.根据权利要求8或9中任一项所述的自承施用装置,所述自承施用装置还包括绝缘元件,所述绝缘元件邻近所述第一结构元件的表面设置。
12.根据权利要求1或2所述的自承施用装置,所述施用装置包括根据所述目标结构的特性确定的柔韧性。
13.根据权利要求1或2所述的自承施用装置,其中所述第一结构元件的几何形状是根据所述目标结构的三维扫描和诊断扫描确定的。
14.根据权利要求1或2所述的自承施用装置,所述自承施用装置还包括至少一个元件,所述至少一个元件适于将活性剂施用到所述目标结构,所述活性剂选自由以下项组成的组:电流、电压、电场、磁场、以及它们的组合。
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