[发明专利]导电结构体、包括该导电结构体的电极以及显示装置有效
申请号: | 201680053281.4 | 申请日: | 2016-10-24 |
公开(公告)号: | CN108139638B | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
发明(设计)人: | 李一翻;章盛晧;闵进赫;金起焕;朴赞亨 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G06F3/041;H01L51/52;H01L27/32 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 李琳;陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 导电 结构 包括 电极 以及 显示装置 | ||
1.一种导电结构体,包括:
基板;
第一金属层,其设置在所述基板上,并且由单一金属形成,在所述第一金属层具有0%透光率的厚度下,所述第一金属层在具有380nm至780nm波长的光中的平均光反射率为60%到100%;
第二金属层,其设置在所述第一金属层的至少一个表面上,由MoTi半透明层形成,所述MoTi半透明层在可见光区域中具有1%到60%的透光率;以及
光反射减少层,包括MoTi氮氧化物,所述光反射减少层设置在所述第二金属层上并且由半透明材料形成,
与没有设置所述第二金属层的情况相比,所述光反射减少层的表面在具有380 nm至780 nm波长的光中的平均光反射率降低7%至50%,并且
其中,在具有380nm至780nm的波长的光中,所述第二金属层的消光系数(k)为2.9以上且3.8以下。
2.根据权利要求1所述的导电结构体,其中,所述第二金属层由两种或更多种金属形成,所述金属在所述第二金属层具有0%透光率的厚度下、在具有380 nm至780 nm波长的光中的平均光反射率为40%至60%。
3. 根据权利要求1所述的导电结构体,其中,所述第一金属层的厚度为10 nm以上且1μm以下。
4. 根据权利要求1所述的导电结构体,其中,所述第二金属层的厚度为3 nm以上且35nm以下。
5. 根据权利要求1所述的导电结构体,其中,所述光反射减少层的厚度为10 nm以上且100 nm以下。
6. 根据权利要求1所述的导电结构体,其中,在具有380 nm至780 nm的波长的光中,所述光反射减少层的表面的平均光反射率为25%以下。
7. 根据权利要求1所述的导电结构体,其中,在具有380 nm至780 nm的波长的光中,所述光反射减少层的消光系数(k)为0.2以上且1以下。
8.根据权利要求1所述的导电结构体,还包括:
导线,其设置在所述基板上,
其中,所述导线包括所述第一金属层、所述第二金属层和所述光反射减少层。
9.根据权利要求8所述的导电结构体,其中,所述导线包括导电图案,所述导电图案包括多个开口,并且所述导线将所述多个开口分开。
10. 根据权利要求9所述的导电结构体,其中,所述导线的线宽为0.1 μm以上且100 μm以下。
11. 根据权利要求9所述的导电结构体,其中,相邻的所述导线之间的线间距为0.1 μm以上且100 μm以下。
12.一种电极,包括权利要求1至11中任一项所述的导电结构体。
13.根据权利要求12所述的电极,其中,所述电极是用于触控面板的电极、用于液晶显示器的电极或用于OLED显示器的电极。
14.一种显示装置,包括权利要求12所述的电极。
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