[发明专利]用于改善毫秒退火系统中的处理均匀性的方法

权利要求书

1.一种用于在毫秒退火系统中热处理衬底的方法，包括：

在毫秒退火系统中的处理期间获得指示与一个或更多个衬底相关联的温度分布的数据，所述毫秒退火系统具有将处理室分成顶部室和底部室的晶片平板；以及

至少部分地基于指示所述温度分布的所述数据来调节所述处理室中的压力，以影响在整个所述一个或更多个衬底上的温度均匀性；

其中，调节所述处理室中的压力包括基于所述处理室中的压力使水窗翘曲。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，调节所述压力包括在处理所述一个或更多个衬底中的至少一个衬底期间调节所述处理室中的压力，以调节所述一个或更多个衬底中的所述至少一个衬底的温度分布。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述压力被调节成处于相对于大气压力为+2kPa至-2kPa的范围内。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，调节所述处理室中的压力包括调节所述处理室与配置成使处理气体流动通过所述处理室的气体流动系统中的下游管线之间的压力差，所述下游管线位于所述处理室中的一个或更多个排气开口的下游。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，调节所述压力差包括调节设置在所述下游管线中的阀。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述阀通过一个或更多个控制器基于来自配置成测量所述处理室内的压力的压力传感器的一个或更多个信号来调节。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述压力被调节以影响所述处理室中的处理气体的流动模式。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述水窗包括内板和外板，水在所述内板与所述外板之间流动，所述内板相对于所述外板更靠近所述处理室设置。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述水窗被翘曲成使得所述水窗的所述内板背向所述处理室弯曲，以提供对灯光的散焦作用。

10.根据权利要求8所述的方法，其中，所述水窗被翘曲成使得所述水窗的所述外板朝向所述处理室弯曲，以提供对灯光的聚焦作用。

11.根据权利要求1所述的方法，所述方法进一步包括：

至少部分地基于所述温度分布来调节所述毫秒退火系统中的边缘反射器或楔反射器中的一者或更多者的形状、构型或位置。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述楔反射器位于靠近所述晶片平板的室壁上。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，调节所述毫秒退火系统中的边缘反射器或楔反射器中的一者或更多者的形状、构型或位置包括调节所述楔反射器的楔角。

14.根据权利要求12所述的方法，其中，调节所述毫秒退火系统中的边缘反射器或楔反射器中的一者或更多者的形状、构型或位置包括调节所述楔反射器的高度。

15.根据权利要求12所述的方法，其中，所述边缘反射器位于所述晶片平板中。

16.根据权利要求11所述的方法，其中，调节所述毫秒退火系统中的边缘反射器或楔反射器中的一者或更多者的形状、构型或位置包括调节所述边缘反射器的表面轮廓。

17.根据权利要求11所述的方法，其中，调节所述毫秒退火系统中的边缘反射器或楔反射器中的一者或更多者的形状、构型或位置包括利用一个或更多个控制器在所述衬底的处理期间调节所述楔反射器相对于所述衬底的位置。