[发明专利]制冰盘的制造方法在审

专利信息
申请号: 201680054922.8 申请日: 2016-10-07
公开(公告)号: CN108027191A 公开(公告)日: 2018-05-11
发明(设计)人: 伊藤泰永;迫田正一;山吉知树 申请(专利权)人: 株式会社UACJ
主分类号: F25C1/22 分类号: F25C1/22;F25C1/04
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 龚敏;王刚
地址: 日本国东京都千*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 制冰盘 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种制冰盘的制造方法,包括:

准备工序,准备基板,所述基板具备由铝合金构成的芯材、和配设于该芯材的两面的钎料层,该钎料层具有由将Mg含量限制为0.15%以下的铝合金构成的第一层、和位于比该第一层靠所述芯材侧并且由含有Mg:0.2%~5%的铝合金构成的第二层,所述第一层及所述第二层的至少一者由还含有Si:4%~13%的钎焊片材构成;

组装工序,在所述基板分别组装间隔壁部件及流路形成部件,使得所述间隔壁部件与所述基板的一面抵接,并且所述流路形成部件与所述基板的另一面抵接,其中,所述间隔壁部件用于将多个制冰室区划形成为格子状,所述流路形成部件用于形成制冷剂所流通的制冷剂流路;以及

钎焊工序,不使用助焊剂而通过所述钎料层将所述间隔壁部件、所述流路形成部件及所述基板进行钎焊接合。

2.根据权利要求1所述的制冰盘的制造方法,其中,

所述第一层将Mg含量限制为0.15%以下,并含有Si:4%~13%,且余部由Al及不可避免的杂质构成,

所述第二层含有Mg:0.2%~5%、Si:4%~13%,且余部由Al及不可避免的杂质构成。

3.根据权利要求2所述的制冰盘的制造方法,其中,

所述第一层的包覆率为1.5%~20%,所述第二层的包覆率为1.5%~20%,且所述第一层的包覆率和所述第二层的包覆率的合计值为25%以下。

4.根据权利要求1所述的制冰盘的制造方法,其中,

所述第一层将Mg含量限制为0.15%以下,且余部由Al及不可避免的杂质构成,

所述第二层含有Mg:0.2%~5%、Si:4%~13%,且余部由Al及不可避免的杂质构成。

5.根据权利要求4所述的制冰盘的制造方法,其中,

所述第一层的包覆率为0.5%~2%,所述第二层的包覆率为2%~20%。

6.根据权利要求1所述的制冰盘的制造方法,其中,

所述第一层将Mg含量限制为0.15%以下,并含有Si:4%~13%,且余部由Al及不可避免的杂质构成,

所述第二层含有Mg:0.2%~5%,且余部由Al及不可避免的杂质构成。

7.根据权利要求6所述的制冰盘的制造方法,其中,

所述第一层的包覆率为2%~20%,所述第二层的包覆率为0.5%~4%。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的制冰盘的制造方法,其中,

所述第一层及所述第二层的至少一者还含有Bi:0.004%~0.4%。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的制冰盘的制造方法,其中,

所述间隔壁部件及所述流路形成部件由铝合金构成。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的制冰盘的制造方法,其中,

所述间隔壁部件中的、形成所述多个制冰室的外壁的外侧间隔壁部通过芯材和钎焊片材构成,所述芯材由铝合金构成,所述钎焊片材通过在该芯材的至少一个面上形成所述钎料层而成。

11.根据权利要求10所述的制冰盘的制造方法,其中,

所述外侧间隔壁部通过仅在与所述制冰室对置的面的相反侧的面上形成所述钎料层而成的钎焊片材构成。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的制冰盘的制造方法,其中,

所述芯材由6000系的铝合金构成。

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