[发明专利]热喷涂的陶瓷层

权利要求书

1.组件上的陶瓷层，其特征在于，将所述陶瓷层借助热喷涂方法施加到组件的表面上。

2.根据权利要求1所述的陶瓷层，其特征在于，所述组件是医疗技术产品，特别优选假体或植入物。

3.根据权利要求2所述的陶瓷层，其特征在于，所述组件是涂有水泥或不含水泥的内置假体。

4.根据前述权利要求任一项所述的陶瓷层，其特征在于，所述组件是金属组件或陶瓷组件。

5.根据前述权利要求任一项所述的陶瓷层，其特征在于，所述陶瓷层借助真空等离子体喷涂产生，优选在< 50 mbar的压力下。

6.根据前述权利要求任一项所述的陶瓷层，其特征在于，所述层材料是陶瓷材料，优选纯氧化物陶瓷或混合氧化物陶瓷，特别优选选自Al2O3，ZrO2，SiO2，生物玻璃，磷酸钙（例如TCP和羟基磷灰石）以及所述材料的混合物和它们的起始物质的陶瓷。

7.根据前述权利要求任一项所述的陶瓷层，其特征在于，所述陶瓷层的层结构是均匀致密的、多孔的或分层级的（从一个层结构到另一个层结构的变化）。

8.根据权利要求7所述的陶瓷层，其特征在于，所述多孔结构包括柱状层结构。

9.根据权利要求7所述的陶瓷层，其特征在于，所述致密结构具有特定的表面粗糙度，优选粗糙度Ra为>> 0.03 µm。

10.用于制造根据前述权利要求任一项所述的陶瓷层的方法，其特征在于，所述陶瓷层借助热喷涂的方法（例如在大气或真空中基于等离子体的方法）而产生。