[发明专利]曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光方法

说明书

本发明提供一种液晶曝光装置，经由投影光学系统(16)以照明光使基板(P)曝光，其具备：保持基板(P)的基板保持具(34)、包含读头单元(60)与标尺(52、56)并根据读头单元(60)的输出取得基板保持具(34)的位置信息的基板编码器系统(50)、以及使基板保持具(34)上的读头单元(60)与标尺(52)中的一方相对于另一方相对移动的驱动部。

技术领域

本发明涉及曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法及曝光方法，进一步详言之，涉及以照明光使物体曝光的曝光装置及曝光方法、以及使用前述曝光装置的平面显示器或组件的制造方法。

背景技术

一直以来，在用以制造液晶显示组件、半导体组件(集成电路等)等电子组件(微组件)的微影制程中，是使用一边使光罩(光罩)或标线片(以下，统称为“光罩”)、与玻璃板或晶圆(以下，统称为“基板”)沿既定扫描方向(scan方向)同步移动、一边将形成在光罩的图案使用能量束转印至基板上的步进扫描(step&scan)方式的曝光装置(所谓的扫描步进机(亦称扫描机)等。

作为此种曝光装置，有一种具备使用基板载台装置所具有的棒状镜(长条镜)以求出曝光对象基板在水平面内的位置信息的光干涉仪系统者广为人知(例如，参照专利文献1)。

此处，使用光干涉仪系统求出基板的位置信息时，无法忽视空气波动的影响。另外，上述空气波动的影响，虽可藉由编码器系统的使用来降低，但因近年来的基板的大型化，欲准备一能涵盖基板的全移动范围的标尺是非常困难的。

在先技术文献

专利文献1：美国专利申请公开第2010/0266961号说明书

发明内容

本发明第1方式提供一种曝光装置，经由投影光学系统以照明光使物体曝光，其具备：保持前述物体的保持部、包含测量部与被测量部并根据前述测量部的输出取得前述保持部的位置信息的位置测量部、以及使前述保持部上的前述测量部与前述被测量部中的一方相对于另一方相对移动的第1驱动部。

本发明第2方式提供一种平面显示器的制造方法，其包含：使用前述第1方式的曝光装置使前述物体曝光的动作，以及使曝光后的前述物体显影的动作。

本发明第3方式提供一种组件制造方法，其包含：使用前述第1方式的曝光装置使前述物体曝光的动作，以及使曝光后的前述物体显影的动作。

本发明第4方式提供一种曝光方法，经由投影光学系统以照明光使物体曝光，其包含：根据包含测量部与被测量部在内的位置测量部的前述测量部的输出，取得保持前述物体的保持部的位置信息的动作；以及以第1驱动部使前述保持部上的前述测量部与前述被测量部中的一方相对于另一方相对移动的动作。

附图说明

图1是概略显示第1实施方式的液晶曝光装置的构成的图。

图2(A)是概略显示图1的液晶曝光装置具备的光罩编码器系统的构成的图、图2(B)是光罩编码器系统的局部(图2(A)的A部分)放大图。

图3(A)～图3(E)是用以说明在光罩编码器系统及基板编码器系统的读头输出的接续处理的图(其1～其5)。

图4(A)及图4(B)是第1实施方式的基板编码器系统的概念图(分别为侧视图、俯视图)，图4(C)是显示基板编码器系统的具体例的图。

图5(A)及图5(B)是基板编码器系统的局部(图4(C)的B部分)放大图。

图6是基板编码器系统的概念图。

图7是显示以液晶曝光装置的控制系为中心构成的主控制装置的的输出入关系的方块图。

图8(A)是显示曝光动作时的光罩编码器系统的动作的图(其1)、图8(B)是显示曝光动作时的基板编码器系统的动作的图(其1)。