[发明专利]曝光装置、曝光方法、平面显示器的制造方法、及元件制造方法有效

专利信息
申请号: 201680057222.4 申请日: 2016-09-29
公开(公告)号: CN108139680B 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 青木保夫 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/68
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 刘杨
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 曝光 装置 方法 平面 显示器 制造 元件
【说明书】:

曝光装置的基板载台装置(20)具备:非接触保持具(32),将基板(P)的第1区域及在Y轴方向与前述第1区域排列设置的第2区域的至少一部分区域以非接触方式支承;基板载具(40),在X轴方向不与非接触保持具(32)重叠的位置保持被非接触保持具(32)以非接触方式支承的基板(P);Y线性致动器(62)及Y音圈马达(64),使基板载具(40)在Y轴方向相对非接触保持具(32)相对移动;X音圈马达(66),使基板载具(40)在X轴方向移动;以及致动器,使非接触保持具(32)在X轴方向移动。

技术领域

本发明关于曝光装置、曝光方法、平面显示器的制造方法、及元件制造方法。

背景技术

以往,在制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等之电子元件(微型元件)之微影制程中,使用步进扫描方式之曝光装置(所谓扫描步进机(亦称为扫描机))等,其一边使光罩(photomask)或标线片(以下总称为「光罩」)与玻璃板或晶圆(以下总称为「基板」)沿着既定扫描方向同步移动,一边使用能量光束将形成在光罩之图案转印至基板上。

作为此种曝光装置,已知有为了将基板高速且高精度地定位,将保持基板之基板保持具往水平面内之三自由度方向(扫描方向、交叉扫描方向、以及水名片内之旋转方向)微幅驱动者(参照例如专利文献1)。

此处,随着近年基板大型化,基板保持具亦大型化且变重,而有难以进行基板之定位控制的倾向。

先行技术文献

[专利文献1]美国专利申请公开第2010/0266961号说明书

发明内容

根据本发明之第1技术方案,提供一种曝光装置,通过光学系将照明光照射于物体,将前述物体相对前述照明光驱动以分别扫描曝光前述物体的多个区域,其具备:第1支承部,将前述多个区域中之第1区域与在第1方向与前述第1区域排列设置之第2区域之至少一部分区域以非接触方式支承;保持部,在与前述第1方向交叉之第2方向不与前述第1支承部重叠的位置保持被前述第1支承部以非接触方式支承的前述物体;以及第1驱动部,在前述第2方向与前述第1支承部分离配置,以前述第2区域之另一部分之区域被前述第1支承部支承之方式,将保持前述物体之前述保持部相对前述第1支承部往前述第1方向驱动。

根据本发明之第2技术方案,提供一种曝光装置,将照明光照射于物体,将前述物体相对前述照明光往第1方向移动以分别扫描曝光前述物体的多个区域,其具备:第1支承部,以非接触方式支承前述多个区域中之至少第1区域;保持部,保持被前述支承部以非接触方式支承之前述物体;第2驱动系,将前述保持部,以前述第1区域之一部分在前述第1方向及与前述第1方向交叉之第2方向之一方向脱离前述支承部之方式相对前述支承部驱动;以及第2驱动系,将前述支承部往另一方向驱动。

根据本发明之第3技术方案,提供一种曝光装置,通过光学系将照明光照射于物体,将前述物体相对前述照明光驱动以扫描曝光前述物体,其具备:第1支承部,以非接触方式支承前述物体之大致整体;保持部,保持被前述支承部以非接触方式支承之前述物体;以及驱动部,将前述保持部相对前述第1支承部驱动;前述驱动部,将保持被前述第1支承部以非接触方式支承大致整体之前述物体的前述保持部,以前述物体之一部分从前述第1支承部脱离之方式,相对前述物体中之被照射前述照明光之区域予以驱动。

根据本发明之第4技术方案,提供一种平面显示器之制造方法,其包含:使用第1至第3态样之任一曝光装置使前述物体曝光之动作;以及使曝光后之前述物体显影之动作。

根据本发明之第5技术方案,提供一种元件制造方法,其包含:使用第1至第3态样之任一曝光装置使前述物体曝光之动作;以及使曝光后之前述物体显影之动作。

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