[发明专利]曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法有效
申请号: | 201680057223.9 | 申请日: | 2016-09-29 |
公开(公告)号: | CN108139689B | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 下山隆司 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/23 | 分类号: | G03F7/23;G03F7/20;H01L21/68 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 史雁鸣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 方法 以及 平面 显示器 制造 | ||
1.一种曝光装置,透过光学系统对物体照射照明光,其具备:
移动体,配置于前述光学系统的下方,保持前述物体;
驱动系统,能在与前述光学系统的光轴正交的既定平面内彼此正交的第1方向、第2方向移动前述移动体;
测量系统,具有:格子构件,具有在前述第1方向彼此分离配置的多个第1格子区域及在前述第2方向上与前述多个第1格子区域不同的位置于前述第1方向彼此分离配置的多个第2格子区域;多个读头,对前述格子构件分别照射测量光束且能在前述第2方向移动;以及测量装置,测量在前述第2方向上的前述多个读头的位置信息,该测量系统设置成前述格子构件和前述多个读头中之一方设于前述移动体,且前述格子构件和前述多个读头中之另一方与前述移动体对向,该测量系统根据前述多个读头中的、前述测量光束照射于前述多个第1格子区域及第2格子区域中的至少两个格子区域的至少三个读头的测量信息和前述测量装置的测量信息,测量至少在前述既定平面内的3个自由度方向上的前述移动体的位置信息;以及
控制系统,根据由前述测量系统测量的位置信息,控制前述驱动系统;
前述多个读头分别在前述移动体向前述第1方向的移动中,其前述测量光束从前述多个第1格子区域及第2格子区域中之一个格子区域脱离且移至与前述一个第1格子区域或第2格子区域相邻之另一第1格子区域或第2格子区域;
前述控制系统根据前述至少三个读头的测量信息或使用前述至少三个读头测量的前述移动体的位置信息,取得用于使用前述多个读头中的、从前述一个第1格子区域或第2格子区域脱离的前述测量光束移至前述另一第1格子区域或第2格子区域的、与前述至少三个读头不同的读头来控制前述移动体的移动的修正信息。
2.如权利要求1所述的曝光装置,其中,在由包含前述至少三个读头和前述不同的读头之至少四个读头,分别将前述测量光束照射于包含前述另一第1格子区域或第2格子区域的前述多个第1格子区域及第2格子区域之至少两个的期间,取得前述修正信息。
3.如权利要求1或2所述的曝光装置,其中,在前述至少三个读头之一个读头将前述测量光束从包含前述另一第1格子区域或第2格子区域的前述多个第1格子区域及第2格子区域之至少两个脱离前,取得前述修正信息。
4.如权利要求1或2所述的曝光装置,其中,前述测量系统,在前述至少三个读头之一个读头将前述测量光束从包含前述另一第1格子区域或第2格子区域的前述多个第1格子区域及第2格子区域之至少两个脱离前,使用取代前述至少三个读头之一个而包含已取得前述修正信息的前述不同的读头的至少三个读头来测量前述移动体的位置信息。
5.如权利要求1或2所述的曝光装置,其中,前述控制系统,在前述至少三个读头之一个读头将前述测量光束从包含前述另一第1格子区域或第2格子区域的前述多个第1格子区域及第2格子区域之至少两个脱离前,将使用前述至少三个读头的前述移动体的移动控制,切换成使用取代前述至少三个读头之一个而包含已取得前述修正信息的前述不同的读头的至少三个读头的前述移动体的移动控制。
6.如权利要求1或2所述的曝光装置,其中,前述至少三个读头,包含对前述多个第1格子区域之至少一个照射前述测量光束的至少一个读头、以及对前述多个第2格子区域之至少一个照射前述测量光束的至少两个读头。
7.如权利要求6所述的曝光装置,其中,前述测量系统,具有移动对前述多个第1格子区域之至少一个照射前述测量光束的前述至少一个读头的第1驱动部、以及移动对前述多个第2格子区域之至少一个照射前述测量光束的前述至少两个读头的第2驱动部;
前述控制系统,控制前述第1驱动部、第2驱动部,使至少在前述照明光对前述物体的照射中,前述至少三个读头分别在前述第2方向不将前述测量光束从前述多个第1格子区域及第2格子区域脱离。
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