[发明专利]用于处理玻璃表面以减少颗粒附着的方法

权利要求书

1.一种处理玻璃基材的方法，所述方法包括：

使所述玻璃基材的表面与包含至少一种烃的等离子体进行一段停留时间的接触，所述停留时间的接触足以在所述表面的至少一部分上形成涂层，其中，所述涂层包含：

(a)总表面能小于35mJ/m²；以及

(b)与去离子水的接触角在15度至95度的范围内，

其中，使所述玻璃基材的所述表面与所述等离子体接触包括以5mm/s至30mm/s的速度用等离子体扫掠所述表面。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，包含至少一种烃的层选自戊烷、己烷、庚烷、辛烷、壬烷、癸烷、十一烷和十二烷。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，表面的经过涂覆的部分的极性表面能小于15mJ/m²。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述等离子体包含1体积％至20体积％的所述至少一种烃。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂层的厚度在1nm至100nm的范围内。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括利用干法或湿法清洁除去所述涂层。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，在除去所述涂层后，所述玻璃基材的所述表面与去离子水的接触角小于10度。

8.一种通过权利要求1所述的方法制得的玻璃基材，其包含至少一个表面，其中，所述表面的至少一部分涂覆有包含至少一种烃的层，其中，所述表面的所述经过涂覆的部分与去离子水的接触角在15度至95度的范围内，并且总表面能小于35mJ/m²。

9.如权利要求8所述的玻璃基材，其特征在于，所述层的厚度在1nm至100nm的范围内。

10.如权利要求8所述的玻璃基材，其特征在于，所述表面的所述经过涂覆的部分的极性表面能小于25mJ/m²。

11.如权利要求8所述的玻璃基材，其特征在于，所述表面的所述经过涂覆的部分的色散表面能大于10mJ/m²。

12.如权利要求8所述的玻璃基材，其特征在于，包含至少一种烃的层是通过等离子体沉积至少一种选自下组的烃而制备：戊烷、己烷、庚烷、辛烷、壬烷、癸烷、十一烷和十二烷。

13.如权利要求8所述的玻璃基材，其特征在于，表面的经过涂覆的部分的极性表面能小于15mJ/m²。

14.如权利要求8所述的玻璃基材，其特征在于，基材的经过涂覆的部分在与水接触5分钟后的与去离子水的清洗接触角为40度或更大。

15.如权利要求14所述的玻璃基材，其特征在于，所述在与水接触5分钟后的与去离子水的清洗接触角为65度或更大。