[发明专利]数据存储介质基板用玻璃、数据存储介质用玻璃基板以及磁盘

说明书

本发明涉及一种数据存储介质基板用玻璃，其中，以下述氧化物基准的摩尔百分率表示，所述数据存储介质基板用玻璃分别以特定量含有SiO₂、Al₂O₃、MgO、CaO、SrO、BaO、Li₂O、Na₂O以及K₂O，实质上不含B₂O₃以及ZrO₂，Li₂O、Na₂O以及K₂O的含量合计(R₂O)、SiO₂含量相对于Al₂O₃含量的摩尔比(SiO₂/Al₂O₃)以及SiO₂和Al₂O₃的含量合计(SiO₂+Al₂O₃)相对于R₂O的摩尔比[(SiO₂+Al₂O₃)/R₂O]在特定范围内，所述数据存储介质基板用玻璃满足式(1)：90＜[SiO₂]+2×[Al₂O₃]+0.8×[RO]‑0.5×[R₂O][在式(1)中，RO表示MgO、CaO、SrO以及BaO的含量合计]，并且所述数据存储介质基板用玻璃的玻璃化转变温度T_g、耐碱性以及耐酸性在特定范围内。

技术领域

本发明涉及用于磁盘或者光盘等数据存储介质的玻璃基板、其玻璃以及磁盘。

背景技术

作为磁盘、光盘等数据存储介质基板用玻璃，例如使用了高杨氏模量的含锂的铝硅酸盐类玻璃或者对其实施化学强化处理而得到的玻璃(例如参见专利文献1)、或者对具有特定的组成的玻璃进行热处理而析出了结晶层的结晶化玻璃(例如参见专利文献2)。

近年来，随着硬盘驱动器的存储容量的增大，高记录密度化正在高速进展。然而，随着高记录密度化，磁性颗粒的微细化损害热稳定性，串扰、再生信号的信噪比(SN比)降低成为问题。因此，作为光与磁的融合技术，热辅助磁记录技术受人注目。

热辅助磁记录技术是：对磁记录层照射激光或者近场光，在使局部加热后的部分的矫顽力降低的状态下施加外部磁场而进行记录，并通过巨磁阻(GMR)元件等读出记录磁化的技术。根据热辅助磁记录技术，能够记录于高矫顽力介质，因此能够在保持热稳定性的同时将磁性颗粒微细化。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2001-180969号公报

专利文献2：日本特开2000-119042号公报

发明内容

发明所要解决的课题

为了通过热辅助磁记录技术将高矫顽力介质制成多层膜并在基板上进行成膜，需要充分地加热基板，要求基板用玻璃具有高耐热性。另外，随着记录密度的高度化，对于平整度的要求变得更严格，并且要求提高作为对在玻璃基板的研磨以及清洗工序中使用的化学品的耐受性的耐碱性以及耐酸性。

然而，在以往的基板用玻璃中，难以兼顾耐热性的提高与耐化学品性、特别是耐碱性的提高、以及用于保持强度的化学强化处理。此外，这样的玻璃的液相温度高，基板的生产困难。因此，本发明的目的在于提供一种基板用玻璃，所述基板用玻璃的耐热性高，而且耐化学品性、特别是耐碱性高，并且可以进行化学强化。

用于解决课题的手段