[发明专利]基因组基因座的增强的重组

权利要求书

1.一种产生新基因阵列的方法，所述方法包括使细胞与第一位点-特异性基因组修饰酶接触，所述第一位点-特异性基因组修饰酶在第一基因阵列中的至少一个靶序列中引入基因组修饰，由此诱导与第二基因阵列的重组；以及选择包含新基因阵列的至少一个子代，其中所述第一和第二基因阵列为串联重复基因阵列、或基因家族、或旁系同源物，并且其中所述第一基因阵列与所述第二基因阵列之间的所述重组为不对称的。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述第一位点-特异性基因组修饰酶在所述第二基因阵列中的至少一个靶序列中引入基因组修饰。

3.如权利要求1或2所述的方法，其进一步包括使所述细胞与第二位点-特异性基因组修饰酶接触，所述第二位点-特异性基因组修饰酶在所述第二基因阵列中的至少一个靶序列中引入基因组修饰。

4.如权利要求1至2中任一项所述的方法，其中所述第一基因阵列和所述第二基因阵列为同源的；其中所述第一基因阵列和所述第二基因阵列为异源的；其中所述第一基因阵列和所述第二基因阵列为部分同源的；其中所述第一基因阵列和所述第二基因阵列为旁系同源的；其中所述第一基因阵列和所述第二基因阵列为相同的；或其中所述第一基因阵列和所述第二基因阵列为不相同的。

5.如权利要求1至2中任一项所述的方法，其中所述基因组修饰为双链断裂(DSB)、单链断裂、转座酶介导的DNA交换反应或重组酶介导的DNA交换反应。

6.如权利要求1或2所述的方法，其中所述至少一个靶序列位于基因内。

7.如权利要求1或2所述的方法，其中所述至少一个靶序列位于基因间区内。

8.如权利要求1或2所述的方法，其中所述第一基因阵列中的所述至少一个靶序列位于基因间区内，并且所述第二基因阵列中的所述至少一个靶序列位于基因区内；其中所述第一基因阵列中的所述至少一个靶序列位于基因区内，并且所述第二基因阵列中的所述至少一个靶序列位于基因间区内；其中所述第一基因阵列中的所述至少一个靶序列位于基因间区内，并且所述第二基因阵列中的所述至少一个靶序列位于基因间区内；其中所述第一基因阵列中的所述至少一个靶序列位于基因区内，并且所述第二基因阵列中的所述至少一个靶序列位于基因区内；其中所述第一基因阵列中的所述至少一个靶序列与所述第二基因阵列中的所述至少一个靶序列为相同的；其中所述第一基因阵列中的所述至少一个靶序列与所述第二基因阵列中的所述至少一个靶序列为不同的；或其中所述第一基因阵列中的所述至少一个靶序列与所述第二基因阵列的所述至少一个靶序列具有至少80％、至少81％、至少82％、至少83％、至少84％、至少85％、至少86％、至少87％、至少88％、至少89％、至少90％、至少91％、至少92％、至少93％、至少94％、至少95％、至少96％、至少97％、至少98％、至少99％或100％的序列同一性。

9.如权利要求1至2中任一项所述的方法，其中所述第一基因阵列中包含所述位点-特异性基因组修饰酶的所述靶序列的基因组基因座与所述第二基因阵列的至少约100bp、至少约150bp、至少约200bp、至少约250bp、至少约300bp、至少约350bp、至少约400bp、至少约450bp、至少约500bp、至少约600bp、至少约700bp、至少约800bp、至少约900bp或至少约1000bp为同源的。

10.如权利要求8所述的方法，其中具有同源性的所述区位于所述第一基因阵列和所述第二基因阵列中的对应位置；或其中具有同源性的所述区位于所述第一基因阵列和所述第二基因阵列中的不同位置。

11.如权利要求1至2中任一项所述的方法，其中所述新基因阵列与所述第一基因阵列或所述第二基因阵列相比具有增加的基因数目；或其中所述新基因阵列与所述第一基因阵列或所述第二基因阵列相比具有减少的基因数目。