[发明专利]发泡膜的阻隔贴片以及改善皮肤外观的方法有效

专利信息
申请号: 201680059571.X 申请日: 2016-10-18
公开(公告)号: CN108135787B 公开(公告)日: 2022-05-17
发明(设计)人: E·C·博斯韦尔;E·A·怀尔德;M·莱姆斯 申请(专利权)人: 宝洁公司
主分类号: A61K8/02 分类号: A61K8/02;A61K8/81;A61Q19/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 樊云飞;江磊
地址: 美国俄*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发泡 阻隔 以及 改善 皮肤 外观 方法
【权利要求书】:

1.一种美容护理产品,所述美容护理产品包括:

多层阻隔贴片,所述多层阻隔贴片包括:

(i)非发泡第一层,所述非发泡第一层包括具有第一表面的非发泡聚合物膜,并且具有5微米至250微米的厚度;

(ii)发泡第二层,所述发泡第二层包含发泡聚合物膜,所述发泡聚合物膜包含45%至80%的平均空隙体积百分比,和10微米至250微米的厚度,其中所述发泡第二层不含皮肤活性剂,所述第二层包含乙烯-乙酸乙烯酯;

(iii)非发泡第三层,所述非发泡第三层具有5微米至250微米的厚度,其中所述发泡第二层处于所述非发泡第一层和所述非发泡第三层之间;

其中所述阻隔贴片包含根据ASTM E2539的2.5至15的动态色指数(FI);以及

化妆品组合物,所述化妆品组合物包含有效量的皮肤活性剂;以及

压敏粘合剂。

2.根据权利要求1所述的产品,其中所述非发泡第一层具有10微米至40微米的厚度。

3.根据权利要求1所述的产品,其中所述第一层包含乙烯-乙酸乙烯酯。

4.根据权利要求1所述的产品,其中所述发泡第二层包含平均空隙体积百分比为50%至75%的发泡聚合物膜。

5.根据权利要求1所述的产品,其中所述发泡第二层包含平均空隙体积百分比为55%至73%的发泡聚合物膜。

6.根据权利要求1所述的产品,其中所述发泡第二层包含厚度为40微米至160微米的发泡聚合物膜。

7.根据权利要求1所述的产品,其中所述FI为2.5至6。

8.根据权利要求1所述的产品,其中所述FI为3至6。

9.根据权利要求1所述的产品,其中所述阻隔贴片具有20微米至500微米的总厚度。

10.根据权利要求1所述的产品,其中所述阻隔贴片还包含1g/m2/24h至500g/m2/24h的WVTR。

11.根据权利要求1所述的产品,其中所述阻隔贴片还包含1g/m2/24h至250g/m2/24h的WVTR。

12.根据权利要求1所述的产品,其中所述阻隔贴片是水不可透过的。

13.根据前述权利要求中任一项所述的产品,其中所述非发泡第一层含小于1wt%的孔。

14.根据权利要求1-12中任一项所述的产品,其中所述阻隔贴片含小于1wt%的颜料。

15.根据权利要求1-12中任一项所述的产品,其中所述阻隔贴片还包含0.009gfcm2/cm至0.14gfcm2/cm的柔性。

16.根据权利要求1-12中任一项所述的产品,其中所述阻隔贴片还包括第一表面并且压敏粘合剂与所述阻隔贴片的第一表面的至少一部分接触。

17.根据权利要求1-12中任一项所述的产品,其中所述压敏粘合剂包含丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯均聚物或共聚物、丁基橡胶基体系、有机硅、聚氨酯、乙烯基酯和酰胺、烯烃共聚物材料、苯乙烯/异戊二烯二嵌段共聚物;苯乙烯/丁二烯二嵌段共聚物;丁烯/乙烯/苯乙烯三嵌段共聚物,或它们的组合。

18.根据权利要求1-12中任一项所述的产品,其中所述压敏粘合剂包含化妆品组合物。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宝洁公司,未经宝洁公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680059571.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top