[发明专利]FeNi有序合金及FeNi有序合金的制造方法有效
| 申请号： | 201680059653.4 | 申请日： | 2016-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN108138252B | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 藏裕彰;后藤翔;林靖 | 申请（专利权）人： | 株式会社电装 |
| 主分类号： | C21D6/00 | 分类号： | C21D6/00;C21D3/08;C23C8/26;C23C8/80;B22F1/00;C22C19/03;C22C38/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | feni 有序 合金 制造 方法 | ||
1.一种FeNi有序合金的制造方法，其是具有L10型的有序结构的FeNi有序合金的制造方法，
在进行将FeNi无序合金(100)氮化的氮化处理后，
进行从所述氮化处理后的Fe和Ni以与L10型的FeNi有序结构相同的晶格结构排列而成的FeNiN中除去氮的脱氮处理，从而得到L10型的FeNi有序合金，
由此得到有序度S为0.5以上的L10型的FeNi有序合金。
2.根据权利要求1所述的FeNi有序合金的制造方法，其中，所述氮化处理的处理温度为300℃以上且500℃以下。
3.根据权利要求1或2所述的FeNi有序合金的制造方法，其中，所述脱氮处理的处理温度为250℃以上且400℃以下。
4.一种FeNi有序合金，其是通过权利要求1～3中任一项所述的FeNi有序合金的制造方法制造得到的FeNi有序合金，具有L10型的有序结构，通过X射线衍射装置的测定而求得的材料整体的有序度S为0.5以上。
5.根据权利要求4所述的FeNi有序合金，其具有L10型的有序结构，材料整体的平均有序度S为0.7以上。
6.一种FeNi有序合金的制造方法，其是具有L10型的有序结构的FeNi有序合金的制造方法，包括下述步骤：
合成Fe和Ni以与L10型的FeNi有序结构相同的晶格结构排列而成的化合物；和
从Fe和Ni以与L10型的FeNi有序结构相同的晶格结构排列而成的FeNi化合物中除去除Fe和Ni以外的无用的元素，从而生成L10型的FeNi有序合金，
其中，合成所述化合物的步骤是合成FeNiN作为所述化合物。
7.根据权利要求6所述的FeNi有序合金的制造方法，其中，
包含从FeNi无序合金中除去氧化膜的步骤，
合成所述化合物的步骤在除去所述氧化膜的步骤之后进行，是通过将除去了所述氧化膜的FeNi无序合金进行氮化处理从而合成成为中间产物的FeNiN的步骤。
8.根据权利要求7所述的FeNi有序合金的制造方法，其中，在同一加热炉(10)内连续地进行除去所述氧化膜的步骤和合成所述化合物的步骤。
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