[发明专利]光学元件特性测定装置

说明书

提供一种同时照射从反射光传感器部的光轴观察时光强度分布呈环状的集束光、以及向被检透镜的中心附近照射的平行光线来测定被检透镜的特性值的装置。提供一种透镜的面偏移量测定装置，其通过对透过被检透镜的环状的集束光、或向被检透镜的中心附近照射的平行光线的聚光点位置进行测定，从而不必使被检透镜旋转，即可测定被检透镜的面偏移量。光学元件特性测定装置具备将光强度分布呈环状的集束光、以及平行光线向被检光学元件照射的环状集束光照射光部，被检光学元件的处于环状集束光照射光部侧的面为表面，表面的相反侧为背面，通过对在被检光学元件的表面或背面反射或透过被检光学元件的光线的强度、或所述光线的光路进行解析，来测定被检光学元件的形状特性。

技术领域

本发明涉及一种装置，其通过同时照射从反射光传感器部的光轴观察时光强度分布呈环状的集束光、以及向被检透镜的中心附近照射的平行光线来测定被检透镜的特性值。尤其是涉及一种对200μm以下的薄型的被检透镜的厚度进行测定的装置、或者是一种透镜的面偏移量测定装置，所述透镜的面偏移量测定装置为了使被检透镜的透镜中心轴(被检透镜第一面的法线)与反射光传感器部的光轴对准而进行调整，之后，对透过被检透镜的环状的集束光、或向被检透镜的中心附近照射的平行光线的聚光点位置进行测定，从而不必使被检透镜旋转，即可测定被检透镜的面偏移量。

背景技术

以往，如图1所示，为了测定透镜那样的光学元件的厚度，已知下述的技术：将被检光学元件11配置于连接两个位移计10a、10b的直线上，两个位移计10a、10b分别将光束12a、12b照射于被检光学元件11，测定一方的位移计10a所测定的至被检光学元件11的表面为止的距离a1、以及另一方的位移计10b所测定的至被检光学元件11的背面为止的距离a2，并从两个位移计10a、10b之间距离的a0中减去距离a1和距离a2，由此测定被检光学元件11的厚度，例如，日本专利公开平1-235806号公报(专利文献1)、及日本专利公开平10-239046号公报(专利文献2)中，记载了使用两个光学式位移计测定光学元件的厚度的技术。

另外，作为使用一个传感器部12来测定光学元件的厚度的现有技术，已知有下述非接触地测定光学元件的厚度的技术：如图2的(A)所示，将集束光13向已设置于保持支架14的被检光学元件15照射，一边在旋转载台16的基准平面使被检光学元件15沿图2的(B)所示的z轴方向移动，一边测定由已设置于传感器部20的未图示的成像光学系统拍摄的、在被检光学元件15的表面及背面产生的像的光强度，利用未图示的处理部，将相对于z轴的光强度作为数字化数据进行抽样，提取两个光强度的极大值，基于它们的z轴的间隔(测定值d)，算出被检光学元件21的厚度。

另外，关于测定透镜的偏心量的装置，日本专利公开2007-206031号公报(专利文献3)中记载了一种透过式偏心测定装置，其通过使被检透镜以其外周基准而旋转，从而可以测定该被检透镜的偏心量。

进一步，例如日本专利公开2008-298739号公报(专利文献4)或日本专利公开2007-327771号公报(专利文献5)中记载了一种偏芯量测定装置，偏芯量测定装置中，通过一边使被检光学元件(被检透镜)的被检面围绕规定旋转轴旋转，一边使规定形状的指标的像成像于被检面的焦点面，并测量介由被检面中继并成像于摄像面上的指标的像随着被检面的旋转而以描出圆形的轨迹的方式移动的圆的半径，由此求出被检面的偏芯量。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利公开平1-235806号公报

专利文献2：日本专利公开平10-239046号公报

专利文献3：日本专利公开2007-206031号公报

专利文献4：日本专利公开2008-298739号公报

专利文献5：日本专利公开2007-327771号公报

发明内容