[发明专利]包含Hf-B-C三元相的新型涂覆材料

权利要求书

1.一种涂覆基材，其具有沉积在基材表面上的涂层，所述涂层包含至少一个金属硼碳化物层，其特征是，所述金属硼碳化物层是显示出多晶结构的、由铪、硼和碳的单相形成的三元化合物。

2.根据权利要求1的涂覆基材，其特征是，该三元化合物具有按照原子百分比表达的化学组成，所述化学组成能够由化学式Hf_uB_vC_w表达，其中，u+v+w＝100，0<v≤35原子百分比，0<w≤35原子百分比，u≤60原子百分比。

3.根据权利要求1或2的涂覆基材，其特征是，所述单相显示出立方晶系固溶体结构或正交晶系结构。

4.一种制造根据权利要求1至3之一的涂覆基材的方法，其特征是，该方法包括以下步骤：

-在涂覆室中提供至少一个待涂覆基材，

-在基材表面的至少一部分上沉积一层三元化合物，其中，所述三元化合物层通过利用PVD技术来产生，其中，至少一个包含二元相HfB₂和HfC之组合的靶被用作层沉积的材料源。

5.根据权利要求4的方法，其特征是，所述至少一个靶材显示出具有小于1.5mm的微粒尺寸的二元相区。

6.根据权利要求4或5的方法，其特征是，在三元化合物层的沉积过程中的该基材温度不高于500℃。

7.根据权利要求5或6的方法，其特征是，在三元化合物层的沉积过程中在基材上施加偏电压，其中，偏电压值在-30V至-100V之间。

8.根据权利要求4至7之一的方法，其特征是，在沉积所述三元化合物层的过程中的所述涂覆室内的压力在0.3至0.4帕之间。

9.根据权利要求1至3之一的涂覆基材，其特征是，该基材是滑动组件。

10.根据权利要求1至3之一的涂覆基材，其特征是，该基材是用于机加工的刀具或用于成型加工的工具。