[发明专利]菲烯化合物、菲烯化合物的制造方法以及有机发光元件有效
申请号: | 201680060326.0 | 申请日: | 2016-10-13 |
公开(公告)号: | CN108137619B | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 山路稔 | 申请(专利权)人: | 国立大学法人群马大学 |
主分类号: | C07F5/02 | 分类号: | C07F5/02;C07C45/67;C07C45/77;C07C49/784;C07C49/92;C09K11/06;H01L51/50 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 吕琳;朴秀玉 |
地址: | 日本群马*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 化合物 制造 方法 以及 有机 发光 元件 | ||
1.一种菲烯化合物,其由下述通式(1)表示,
[化学式1]
通式(1)中,R1~R2、R4、R6~R10表示氢原子,R3以及R5中的任一个为下述通式(2)所示的基团,此时,另一个表示氢原子,
[化学式2]
通式(2)中,*表示与所述通式(1)所示的化合物的键结位置,X表示卤素基,Y1表示苯基、呋喃基或噻吩基。
2.根据权利要求1所述的菲烯化合物,其中,
所述通式(1)中,R5为所述通式(2)所示的基团。
3.一种菲烯化合物的制造方法,其包括:
保护化工序,利用保护化剂对下述通式(3)所示的化合物的羰基进行保护;
光稠环工序,形成通过光稠环反应对由所述保护化工序得到的化合物进行稠环后的苯环;
脱保护化工序,通过利用脱保护化剂对由所述光稠环工序得到的化合物进行脱保护来合成下述通式(4)所示的菲烯化合物;
β-二酮衍生物合成工序,通过使由所述脱保护化工序得到的化合物与含羰基化合物反应来合成下述通式(5)所示的β-二酮衍生物;以及
络合物形成工序,通过使由所述β-二酮衍生物合成工序得到的化合物与卤化硼反应来形成下述通式(7)所示的络合物,
[化学式3]
通式(3)中,R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、以及R22分别独立地表示氢原子、碳原子数6以下的烷基或碳原子数1~12的酰基,R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、以及R22中的至少一个表示碳原子数1~12的酰基,R21和R22可以与R21以及R22所键结的碳原子一起相互键结而形成稠环,
[化学式4]
通式(4)中,R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31以及R32分别独立地表示氢原子、碳原子数6以下的烷基或碳原子数1~12的酰基,R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31以及R32中的至少一个表示碳原子数1~12的酰基,R31和R32可以与R31以及R32所键结的碳原子一起相互键结而形成稠环,
[化学式5]
通式(5)中,R33、R34、R35、R36、R37、R38、R39、R40、R41以及R42分别独立地为氢原子、碳原子数6以下的烷基或下述通式(6)所示的基团,R33、R34、R35、R36、R37、R38、R39、R40、R41以及R42中的至少一个表示下述通式(6)所示的基团,R41和R42可以与R41以及R42所键结的碳原子一起相互键结而形成稠环,
[化学式6]
通式(6)中,*表示与所述通式(5)所示的化合物的键结位置,Y1表示芳基或杂芳基,
[化学式7]
通式(7)中,R43~R44、R46、R48~R52为氢原子,R45以及R47中的任一个表示下述通式(2)所示的基团,此时,另一个表示氢原子,
[化学式8]
通式(2)中,*表示与所述通式(7)所示的化合物的键结位置,X表示卤素基,Y1表示苯基、呋喃基或噻吩基。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国立大学法人群马大学,未经国立大学法人群马大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680060326.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:D-A型化合物及其应用
- 下一篇:扩大使用硅酸锆组合物及其使用方法