[发明专利]纳米流体设备以及化学分析装置有效

专利信息
申请号: 201680060895.5 申请日: 2016-10-21
公开(公告)号: CN108139419B 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 嘉副裕;尤里依·皮霍施;北森武彦 申请(专利权)人: 国立研究开发法人科学技术振兴机构
主分类号: G01N35/08 分类号: G01N35/08;B81B1/00;G01N37/00
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 张永康
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 纳米 流体 设备 以及 化学分析 装置
【权利要求书】:

1.一种纳米流体设备,其具备第一基板和第二基板,所述第一基板在一个面上具有深度或宽度的至少一者为10nm~1000nm的尺寸的槽,所述第二基板是对第二基板与该第一基板彼此相对的一个面之间进行接合而一体化设置,并且与所述第一基板的深度或宽度的至少一者为10nm~1000nm的尺寸的槽共同形成纳米流路,其中,

所述第一基板或所述第二基板中的任一者,在俯视时与所述纳米流路重叠的位置的一部分中至少具有薄壁部,

所述纳米流路具有流路部和存储部,所述流路部在一个方向上延伸,所述存储部被设置在俯视时与所述薄壁部重叠的位置并且是比所述流路部的宽度宽的动作区域,

所述存储部的宽度为2μm以上,所述存储部的深度为10nm~1000nm,

形成所述纳米流路的所述第一基板和所述第二基板的杨氏模量为109Pa以上,

所述薄壁部被按压时,所述薄壁部产生变形来堵塞所述纳米流路。

2.如权利要求1所述的纳米流体设备,其中,所述薄壁部的厚度是10mm以下。

3.如权利要求1或2所述的纳米流体设备,其中,所述薄壁部在纳米流路延伸的方向上的宽度是2~100μm。

4.如权利要求1或2所述的纳米流体设备,其中,所述第一基板和所述第二基板中的不具备所述薄壁部的一者的基板,在与所述薄壁部相对的所述纳米流路内的位置具有与变形后的薄壁部相抵的突起部。

5.如权利要求1或2所述的纳米流体设备,其中,所述第一基板和所述第二基板中的不具备所述薄壁部的一者的基板,在与所述薄壁部相对的所述纳米流路内的位置具有与变形后的薄壁部的形状相配合的凹部。

6.如权利要求1或2所述的纳米流体设备,其中,其具有进行所述按压的按压机构。

7.一种化学分析装置,其中,其具备权利要求1~6中任一项所述的纳米流体设备。

8.一种化学分析装置,其中,其具备权利要求1~6中任一项所述的纳米流体设备和2个以上的微流路设备,所述2个以上的微流路设备具有微尺度的微流路,所述微尺度的微流路以夹着该纳米流体设备的方式被配置,

所述纳米流体设备和所述2个以上的微流路设备各自通过所述纳米流路与所述微流路之间的连通而被连结在一起,

能够通过所述纳米流体设备进行化学分析。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国立研究开发法人科学技术振兴机构,未经国立研究开发法人科学技术振兴机构许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680060895.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top