[发明专利]纳米流体设备以及化学分析装置

权利要求书

1.一种纳米流体设备，其具备第一基板和第二基板，所述第一基板在一个面上具有深度或宽度的至少一者为10nm～1000nm的尺寸的槽，所述第二基板是对第二基板与该第一基板彼此相对的一个面之间进行接合而一体化设置，并且与所述第一基板的深度或宽度的至少一者为10nm～1000nm的尺寸的槽共同形成纳米流路，其中，

所述第一基板或所述第二基板中的任一者，在俯视时与所述纳米流路重叠的位置的一部分中至少具有薄壁部，

所述纳米流路具有流路部和存储部，所述流路部在一个方向上延伸，所述存储部被设置在俯视时与所述薄壁部重叠的位置并且是比所述流路部的宽度宽的动作区域，

所述存储部的宽度为2μm以上，所述存储部的深度为10nm～1000nm，

形成所述纳米流路的所述第一基板和所述第二基板的杨氏模量为10⁹Pa以上，

所述薄壁部被按压时，所述薄壁部产生变形来堵塞所述纳米流路。

2.如权利要求1所述的纳米流体设备，其中，所述薄壁部的厚度是10mm以下。

3.如权利要求1或2所述的纳米流体设备，其中，所述薄壁部在纳米流路延伸的方向上的宽度是2～100μm。

4.如权利要求1或2所述的纳米流体设备，其中，所述第一基板和所述第二基板中的不具备所述薄壁部的一者的基板，在与所述薄壁部相对的所述纳米流路内的位置具有与变形后的薄壁部相抵的突起部。

5.如权利要求1或2所述的纳米流体设备，其中，所述第一基板和所述第二基板中的不具备所述薄壁部的一者的基板，在与所述薄壁部相对的所述纳米流路内的位置具有与变形后的薄壁部的形状相配合的凹部。

6.如权利要求1或2所述的纳米流体设备，其中，其具有进行所述按压的按压机构。

7.一种化学分析装置，其中，其具备权利要求1～6中任一项所述的纳米流体设备。

8.一种化学分析装置，其中，其具备权利要求1～6中任一项所述的纳米流体设备和2个以上的微流路设备，所述2个以上的微流路设备具有微尺度的微流路，所述微尺度的微流路以夹着该纳米流体设备的方式被配置，

所述纳米流体设备和所述2个以上的微流路设备各自通过所述纳米流路与所述微流路之间的连通而被连结在一起，

能够通过所述纳米流体设备进行化学分析。