[发明专利]具有玻璃基材部分的用于荧光检测方法的基材

权利要求书

1.一种用于荧光检测方法的基材，所述基材包括至少一个玻璃基材部分，所述至少一个玻璃基材部分包含：

65.79-78.17摩尔% SiO₂，

2.94-12.12摩尔% Al₂O₃，

0-11.16摩尔% B₂O₃，

0-2.06摩尔% Li₂O，

3.52-13.25摩尔% Na₂O，

0-4.83摩尔% K₂O，

0-3.01摩尔% ZnO，

0-8.72摩尔% MgO，

0-4.24摩尔%的CaO，

0-6.17摩尔% SrO，

0-4.3摩尔% BaO，和

0.07-0.11摩尔% SnO₂，

以及

其中，当x是2以及R是Li、Na、K、Rb、Cs中的任意一种或多种时，R_xO - Al₂O₃ - MgO是0至-2。

2.如权利要求1所述的基材，其特征在于，所述基材包括：显微镜载片、微阵列、烧瓶、毛细管、多井板、微流体通道、微流体储器、流动单元装置或陪替氏培养皿。

3.如权利要求1所述的基材，其特征在于，所述基材包括多井板，以及其中，所述至少一个玻璃基材部分包括所述多井板的下板。

4.如权利要求3所述的基材，其特征在于，所述下板是基本平坦的。

5.如权利要求3所述的基材，其特征在于，所述多井板还包括上部分，所述上部分包括外围裙部、顶表面和开放端部的井阵列。

6.如权利要求1所述的基材，其特征在于，所述基材包括流动单元装置，所述流动单元装置包括至少一层，以及其中，所述至少一个玻璃基材部分包括所述至少一层中的至少一层。

7.如权利要求6所述的基材，其特征在于，所述流动单元装置在所述至少一层中的至少一层中包括至少一个流动通道。

8.如权利要求7所述的基材，其特征在于，在所述至少一层中的至少一层中酸蚀刻了所述至少一个流动通道。

9.如权利要求6所述的基材，所述基材包括至少两层，其中，所述至少两层中的至少一层包括聚合物材料。

10.如权利要求6所述的基材，所述基材包括至少两层，并且还包括所述至少两层中的至少两层之间的粘结剂。

11.如权利要求10所述的基材，其特征在于，所述粘结剂选自金属、金属氧化物、玻璃、陶瓷或塑料。

12.如权利要求6所述的基材，其特征在于，所述流动单元装置包括：基底层，覆盖所述基底层的通道层，和覆盖层。

13.如权利要求12所述的基材，其特征在于，所述至少一个玻璃基材部分包括所述基底层。

14.如权利要求12所述的基材，其特征在于，所述至少一个玻璃基材部分包括所述覆盖层。

15.如权利要求1所述的基材，其特征在于，所述基材包括陪替氏培养皿，以及其中，所述陪替氏培养皿包括：具有平坦底面板的底座和从底面板基本垂直向上延伸的底座侧壁，以及其中，所述至少一个玻璃基材部分包括底面板和底座侧壁中的至少一个。