[发明专利]含有光不稳定过渡金属络合物的氧化还原可聚合组合物

权利要求书

1.一种可聚合组合物，包含：可聚合烯属不饱和组分和氧化还原引发体系，所述氧化还原引发体系包含：

a)氧化剂

b)还原剂，和

c)具有以下式的光不稳定过渡金属络合物：

其中

R^光为光不稳定基团；

M⁺为参与氧化还原循环的过渡金属；

X¹和X²各自独立地选自-N-、-S-和-O-；

X³和X⁴各自独立地选自-NR¹-和

-S-；

每个R¹独立地选自H、烷基、环烷基、杂环烷基、芳基烷基、杂芳基烷基、烷氧基、卤素、甲酰基、羟基、酰基、芳氧基、烷硫基、氨基、烷基氨基、芳基烷基氨基、二取代的氨基、酰基氨基、酰氧基、酯、酰胺和羧基烷基；

每个相邻对的R¹和R²可以独立地形成具有相应的杂原子X³或X⁴的杂环烷基或杂芳基基团；

R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶和R⁷中的每个独立地选自H、烷基、烯基、炔基、环烷基、环烷基烷基、环烷基烯基、环烷基炔基、杂环基、杂环烷基、杂环烯基、杂环炔基、芳基、芳基烷基、芳基烯基、芳基炔基、杂芳基、杂芳基烷基、杂芳基烯基、杂芳基炔基、烷氧基、卤素、巯基、叠氮基、氰基、甲酰基、羧酸、羧基烷基、羟基、硝基、酰基、芳氧基、烷硫基、氨基、烷基氨基、芳基烷基氨基、二取代的氨基、酰氨基、酰氧基、酯、酰胺、磺酰基、磺酰基、磺酸酯、磺酸、磺酰胺、脲、烷氧基酰氨基和氨基酰氧基；

条件是当R¹和R²与各自的杂原子X³-X⁴形成杂芳基基团时，R³不存在；

R⁴和R⁵能够一起形成氧代基；或者R⁶和R⁷能够一起形成氧代基；

x为1至2；以及y为1至3；或其盐。