[发明专利]具有增强特征的阳极膜有效
申请号: | 201680064003.9 | 申请日: | 2016-10-24 |
公开(公告)号: | CN108350598B | 公开(公告)日: | 2021-03-30 |
发明(设计)人: | 建部正成;大岛贵弘;J·R·阿卡纳;J·A·库兰;中岸丰;片山顺一;原健二;伊藤保裕;本乡亚弓 | 申请(专利权)人: | 苹果公司 |
主分类号: | C25D11/14 | 分类号: | C25D11/14;C25D11/12;C25D11/08;C25D11/10;C25D9/04 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 李玲 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 增强 特征 阳极 | ||
本发明公开了一种用于提供增强的阳极膜的阳极化技术。根据一些实施方案,使用阻隔层平滑化操作来使阳极膜和底层金属基底之间的界面平坦。根据一些实施方案,该方法涉及将具有约20纳米或更大粒径的颜料沉积到阳极膜中。根据一些实施方案,该阳极膜具有多个金属氧化物层。第一层可提供耐划伤性和耐化学性,并且第二层可提供对入射光进行漫反射并向阳极膜提供白色外观的光漫射孔结构。根据一些实施方案,该阳极膜具有致密多孔层和增厚的阻隔层。该多孔层可充当阳极膜的装饰部分并具有在其中注入着色剂的孔。与传统阳极膜相比,该增厚的阻隔层可使阳极膜内的与高性能铝合金的合金元素相关联的缺陷分布在较大的无孔膜中,从而减少腐蚀诱导剂到达高性能铝合金的机会。该方法可用于形成消费产品的美观的涂层,诸如用于电子产品的外壳。
技术领域
本发明所述的实施方案涉及着色阳极化膜和形成着色阳极化膜的方法。更具体地,方法涉及用于提供高度不透明的着色阳极化膜的技术。
背景技术
阳极化是一种使在金属表面上自然形成的保护性氧化物变厚的电化学过程。阳极化过程涉及将金属表面的一部分转换成阳极膜。因此,阳极膜变成金属表面的整体部分。阳极膜由于其硬度可为底层金属提供耐腐蚀性和磨损保护。此外,阳极膜可增强金属表面的外观。例如,阳极膜具有可注入染料以向阳极膜赋予期望颜色的多孔微结构。
然而,用于对阳极膜进行着色的常规方法不能实现具有不透明且饱和着色的外观的阳极膜。具体地,通常可通过染色的阳极膜看到底层金属基底,使得阳极化基底看起来具有浅灰色或金属外观。因此,使用常规阳极膜着色技术不可能获得真正不透明的着色阳极膜—特别是当试图获得纯净且不透明的白色时。相反,用于生产白色着色膜的常规技术使膜呈现出灰白色、哑灰色、或透明白色。与期望的纯净且不透明的白色相比,这些接近白色的阳极膜可能显得单调且不美观。
发明内容
本文描述了涉及阳极化膜和用于形成阳极化膜的方法的各种实施方案。
根据一个实施方案,描述了一种对阳极膜进行着色的方法。阳极膜包括阻隔层上方的多孔层。该方法包括对阻隔层和金属基底之间的界面表面进行平滑化。该方法还包括在阳极膜的多孔层的孔内沉积颜料。
根据另一个实施方案,描述了一种金属制品。该金属制品包括金属基底。该金属制品还包括覆盖金属基底的阳极膜。该阳极膜包括具有在其中注入有颜料的孔的多孔层。该阳极膜还包括被定位在多孔层和金属基底之间的阻隔层。阻隔层与金属基底之间的界面表面足够平滑以将入射到阳极膜的顶表面的光朝向孔内的颜料引导。多孔层的孔的底部也可以是平滑的。
根据又一实施方案,描述了一种用于电子设备的壳体。该壳体包括金属基底和覆盖金属基底的阳极膜。该阳极膜包括具有其中带有颜料的孔的多孔层。该阳极膜还包括被定位在多孔层和金属基底之间的阻隔层。阻隔层的厚度大于约150纳米。
根据一个实施方案,描述了一种形成白色外观金属氧化物膜的方法。该方法包括通过在第一电解质中阳极化基底形成金属氧化物膜的第一层。该方法还包括通过在不同于第一电解质的第二电解质中阳极化基底形成金属氧化物膜的第二层。第二层比第一层更多孔,并且具有孔壁表面,该孔壁表面漫反射入射到金属氧化物膜的外表面的可见光从而赋予金属氧化物膜白色的外观。
根据另一个实施方案,描述了一种具有白色外观的阳极化基底。该阳极化基底具有阳极涂层,该阳极涂层包括第一金属氧化物层,该第一金属氧化物层具有对应于阳极化基底的外表面的外表面。该阳极涂层还包括邻近第一金属氧化物层的第二金属氧化物层。第二金属氧化物层比第一金属氧化物层更多孔,并且具有孔壁表面,该孔壁表面漫反射入射到阳极涂层外表面的可见光从而赋予阳极涂层白色的外观。
根据又一实施方案,描述了一种用于电子设备的壳体。该壳体包括铝合金基底。该壳体还包括设置在铝合金基底上的具有白色外观的阳极涂层。该阳极涂层具有第一金属氧化物层、邻近第一金属氧化物层的第二金属氧化物层和阻隔层。第二金属氧化物层的孔壁结构对入射可见光进行漫反射。该阻隔层定位在第二金属氧化物层和铝合金基底之间,其中该阻隔层的厚度在约150纳米和约800纳米之间。
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