[发明专利]具有减少的杂散聚焦光的滤光片阵列

权利要求书

1.一种具有光学滤光片阵列的设备，

其中所述光学滤光片阵列包括光学滤光片元件阵列；

其中每个光学滤光片元件具有由侧壁连接的相对的相互平行的主面，所述侧壁包括至少一对相对的梯形侧壁和至少一对相对的相互不平行的侧壁；

其中所述滤光片元件的上述相对的相互平行的主面共同限定所述光学滤光片阵列的光学入射孔和光学出射孔，并包括干涉滤光片，

其中所述干涉滤光片包括具有两种或多种折射率值不同的材料的交替层。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，每个滤光片元件是具有侧壁的带，所述带包括一对相对的梯形端部侧壁和一对相对的相互不平行的长侧壁。

3.根据权利要求2所述的设备，还包括：

具有与所述滤光片元件的所述长侧壁平行的长轴的线性或圆柱形光源。

4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，每个滤光片元件包括两对相对的梯形侧壁，其中每一对相对的梯形侧壁相互不平行。

5.根据权利要求1所述的设备，进一步包括：

光学系统，用于产生会聚光或发散光，其中每个滤光片元件的至少一对相对的侧壁与所述会聚光或发散光的局部角对准。

6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，不同于所述滤光片阵列中最外面的滤光片元件，所述滤光片元件的主面在所述光学入射孔和光学出射孔中的一者处具有比在所述光学入射孔和光学出射孔中的其他处更大的面积。

7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述光学滤光片元件包括：

由不同的干涉滤光片限定的不同光学滤光片类型的多个光学滤光片元件。

8.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述光学滤光片元件的所述干涉滤光片包括通带滤光片或陷波滤光片。

9.一种照射光学滤光片阵列的方法，包括：

提供根据权利要求1所述的光学滤光片阵列；以及

利用具有与所述滤光片元件的侧壁的侧壁角度相匹配的局部角度的会聚光或发散光来照射所述光学滤光片阵列。

10.一种具有光学滤光片阵列的设备，

其中所述光学滤光片阵列包括内部光学滤光片元件的阵列，所述内部光学滤光片元件不是所述光学滤光片阵列的最外面的光学滤光片元件；

其中每个内部光学滤光片元件具有由侧壁连接的较大和较小的相对的相互平行的主面，所述侧壁包括至少一对相对的梯形侧壁和至少一对相对的相互不平行的侧壁，还包括干涉滤光片，所述干涉滤光片设置在所述相对的相互平行的主面的其中一个或两个上，所述干涉滤光片包括具有两种或多种折射率值不同的材料的交替层；

其中所述内部光学滤光片元件的较大的主面包括所述光学滤光片阵列的发散孔，并且所述内部光学滤光片元件的较小的主面包括所述光学滤光片阵列的会聚孔。

11.根据权利要求10所述的设备，其特征在于，每个内部光学滤光片元件是具有一对相对的梯形端部侧壁和一对相对的相互不平行的长侧壁的带。

12.根据权利要求10所述的设备，其特征在于，每个内部光学滤光片元件包括两对相对的梯形侧壁，其中每一对相对的梯形侧壁相互不平行。

13.根据权利要求10所述的设备，其进一步包括：

产生会聚光的光学系统，所述会聚光在所述发散孔处进入所述光学滤光片阵列并且在所述会聚孔处离开所述光学滤光片阵列。

14.根据权利要求10所述的设备，其进一步包括：

产生发散光的光学系统，所述发散光在所述会聚孔处进入所述光学滤光片阵列并且在所述发散孔处离开所述光学滤光片阵列。