[发明专利]光学薄膜、图像显示装置以及光学薄膜的制造方法有效
申请号: | 201680064491.3 | 申请日: | 2016-11-01 |
公开(公告)号: | CN108351436B | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
发明(设计)人: | 山崎高康;伊吹俊太郎;大西基贵;米山博之 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02B1/14 | 分类号: | G02B1/14;B32B27/30;G02B1/111 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 周欣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学薄膜 图像 显示装置 以及 制造 方法 | ||
1.一种光学薄膜,其包含:含有(甲基)丙烯酸类树脂的基材薄膜;以及将含有固化性化合物的第1组合物进行固化而成的第1固化层,
所述第1固化层由相容层和第1硬涂层形成,
所述相容层和所述第1硬涂层从所述基材薄膜侧依次设置,
所述固化性化合物的分子量为300以上且400以下,并且在1个分子中具有3个以上的(甲基)丙烯酰基,
相对于所述第1组合物的固体成分质量,所述第1组合物含有70质量%以上的所述固化性化合物,
具有极性基团的固化性化合物的含量相对于所述第1组合物中所有固化性化合物的总质量为40质量%以下,
所述第1硬涂层含有相对于所述第1组合物的固体成分质量为1质量%以上且15质量%以下的季铵盐作为有机类抗静电剂,
所述光学薄膜的所述第1固化层侧的表面的铅笔硬度为H以上,
对所述光学薄膜的反射率谱进行傅立叶变换而得到的功率谱的峰值强度值为0.001~0.030,所述反射率谱是从所述光学薄膜的所述第1固化层侧通过光学干涉方式的非接触表面形状测量进行测定而得到的。
2.根据权利要求1所述的光学薄膜,其中,
所述第1硬涂层的膜厚为2.0μm~7.0μm,并且所述相容层的膜厚超过1.0μm且为10μm以下。
3.根据权利要求1或2所述的光学薄膜,其中,包含第2硬涂层,
所述基材薄膜、所述第1硬涂层、所述第2硬涂层依次设置。
4.根据权利要求3所述的光学薄膜,其中,
所述第2硬涂层是将含有固化性化合物的第2组合物固化而得的层,
相对于所述第2组合物的固体成分质量,所述第2组合物含有小于70质量%的分子量为400以下且在1个分子中具有3个以上(甲基)丙烯酰基的固化性化合物。
5.根据权利要求3所述的光学薄膜,其中,
所述第1硬涂层的膜厚为5.0μm以下,
所述第2硬涂层的膜厚为5.0μm以下,
所述第1硬涂层与所述第2硬涂层的总膜厚为3.0μm~10μm。
6.根据权利要求3所述的光学薄膜,其中,
所述第2硬涂层含有有机类抗静电剂。
7.根据权利要求6所述的光学薄膜,其中,
所述有机类抗静电剂具有季铵盐。
8.根据权利要求1或2所述的光学薄膜,其中,
包含第2硬涂层,所述第2硬涂层是将含有固化性化合物的第2组合物固化而得的层,
所述基材薄膜、所述第1硬涂层、所述第2硬涂层依次设置。
所述第1硬涂层的膜厚为2.0μm~5μm,
所述第2硬涂层的膜厚为5.0μm以下,
且所述相容层的膜厚超过1.0μm且为10μm以下,
所述第1硬涂层与所述第2硬涂层的总膜厚为3.0μm~10μm,
所述第1硬涂层中的固化性化合物的分子量为400以下,并且在1个分子中具有3个以上的(甲基)丙烯酰基,
相对于所述第1组合物的固体成分质量,所述第1组合物含有70质量%以上的所述固化性化合物,
相对于所述第2组合物的固体成分质量,所述第2组合物含有小于70质量%的所述固化性化合物,
所述第1硬涂层和所述第2硬涂层中的至少一者具有季铵盐。
9.根据权利要求1或2所述的光学薄膜,其中,包含低折射率层。
10.一种图像显示装置,其包含权利要求1至9中任一项所述的光学薄膜。
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