[发明专利]放射线成像系统

权利要求书

1.一种放射线成像系统，包括：

至少一个放射线成像装置，所述至少一个放射线成像装置包括二维阵列，在该二维阵列中，检测放射线的多个元件被二维排列以便形成多个行和多个列，所述多个元件包括能用于根据放射线照射剂量已经达到目标照射剂量的事实而停止放射线照射的曝光控制的多个检测器；并且

其特征在于，所述放射线成像系统包括：

控制装置，该控制装置被配置为基于所述至少一个放射线成像装置当中要被使用的放射线成像装置、成像区域、以及被检体信息来确定从所述多个检测器读取信号的读取方式的设定，基于所述读取方式的设定来确定从开始放射线照射直到根据来自二维阵列的信号停止放射线照射为止所需要的最小照射时间，以及当最小照射时间超过基准照射时间时执行错误处理，

其中，所述读取方式的设定包括从所述多个检测器的多个行中指定至少两行，并且指定所述至少两行的检测器当中同时读取信号的检测器的行的数量，

其中，所述最小照射时间包括读取所述至少两行的信号所需要的读取时间，并且所述读取时间Td通过以下计算：

Td＝TL×L÷S，

其中，TL是读取一行的检测器的信号所需要的一行读取时间，L是用于曝光控制的所述至少两行的数量，并且S是同时读取信号的检测器的行的数量，

其中，所述基准照射时间是具有标准物理尺寸的被检体要被成像时的标准放射线照射时间或者通过将正或负余量添加到标准放射线照射时间而获得的时间。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，错误处理包括生成警告的警告处理。

3.根据权利要求2所述的系统，其中，错误处理包括基于由操作员提供的信息改变读取方式的处理。

4.根据权利要求1所述的系统，其中，错误处理包括自动改变读取方式以使得最小照射时间不超过基准照射时间的处理。

5.根据权利要求1所述的系统，其中，通过指定二维阵列中的感兴趣区域来执行所述至少两行的指定，所述至少两行属于指定的感兴趣区域。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的系统，还包括：

放射线源，被配置为生成放射线，

其中，所述控制装置通过控制放射线源来执行曝光控制。