[发明专利]清洁和消毒组合物

说明书

本发明涉及一种用于清洁和消毒基材的两部分液体组合物，包含：(A)包含过乙酸的消毒剂介质；和(B)包含非酶清洁剂、腐蚀抑制剂和螯合剂的补充介质。所述补充介质(B)还包含酶清洁剂、表面活性剂、缓冲剂、pH调节剂或其两种以上的混合物。所述基材可以是医疗设备，例如内窥镜。

技术领域

本发明涉及用于清洁和消毒基材的组合物。更具体地说，本发明涉及用于清洁和消毒诸如医疗设备(例如内窥镜)等基材的两部分液体组合物。

背景技术

暴露于血液和其它体液的内窥镜等医疗设备在每次使用之间都需要清洁和消毒。本领域的问题涉及对清洁和消毒系统的需求，该清洁和消毒系统能够用于清洁和消毒不能承受蒸汽消毒的高温的设备，如内窥镜。本发明为此问题提供了解决方案。

发明内容

本发明涉及一种用于清洁和消毒基材的两部分液体组合物，其包含：(A)包含过乙酸的消毒剂介质；和(B)包含非酶清洁剂、腐蚀抑制剂和螯合剂的补充介质；其中所述非酶清洁剂包含链烷醇胺、醇乙氧基化物、烷基葡糖苷、亚烷基二醇、二丙酸烷基酯(alkyldiproprionate)、烷基二烷基氧化胺或其两种以上的混合物。可以将消毒剂介质(A)称为(A)部分，以及可以将补充介质(B)称为(B)部分。补充介质(B)可以用作清洁剂和助洗剂介质(builders medium)，因此可以被称为清洁剂/助洗剂介质。补充介质还可以包含酶清洁剂。补充介质(B)还可以包含表面活性剂、缓冲剂、pH调节剂或其两种以上的混合物。消毒剂介质(A)和补充介质(B)可用水稀释。

本发明涉及使用上述两部分液体组合物清洁和消毒基材的方法。该方法的优点在于其适用于清洁和消毒不能承受蒸汽消毒的高温的基材，如包括内窥镜之内的医疗设备等。

在一个实施方案中，本发明涉及使用上述两部分液体组合物清洁和消毒基材的一步法，所述方法包括：将基材与补充介质(B)和消毒剂介质(A)接触以清洁和消毒基材。该方法可以在约15℃至约60℃、或约18℃至约60℃、或约18℃至约56℃、或约18℃至约50℃、或约18℃至约40℃、或约18℃至约30℃、或约18℃至约24℃范围内的温度下进行。接触时间可以在约0.5分钟至约240分钟，或约2分钟至约60分钟的范围内。

在一个实施方案中，本发明涉及使用上述两部分液体组合物清洁和消毒基材的两步法，所述方法包括以下步骤：(1)使基材与补充介质(B)接触以清洁基材；以及(2)使基材与消毒剂介质(A)接触以消毒基材。在一个实施方案中，两步法包括以下步骤：(1)使基材与补充介质(B)和消毒剂介质(A)接触以清洁基材，以及(2)使基材与消毒剂介质(A)接触以消毒基材。在一个实施方案中，两步法包括以下步骤：(1)使基材与补充介质(B)接触以清洁基材，以及(2)使基材与消毒剂介质(A)和补充介质(B)接触以消毒基材。在一个实施方案中，两步法包括以下步骤：(1)使基材与补充介质(B)和消毒剂(A)接触以清洁基材，以及(2)使基材与消毒剂介质(A)和补充介质(B)接触以消毒基材。该方法可以任选地包括在步骤(1)之后、步骤(2)之前漂洗基材。步骤(1)和(2)中的每一步可以在约15℃至约60℃、或约18℃至约60℃、或约18℃至约56℃、或约18℃至约50℃、或约18℃至约40℃、或约18℃至约30℃、或约18℃至约24℃范围内的温度下进行。步骤(1)和(2)中每一步的接触时间可以在约0.5分钟至约240分钟，或约2分钟至约60分钟的范围内。

在一个实施方案中，上述方法可用于使活的微生物(包括孢子、临床上重要的细菌、致病性病毒等)4或5个对数级的降低(对于高水平消毒剂(HLD)目的)或6个对数级的降低(对于灭菌目的)。在一个实施方案中，该方法可以用于清洁和消毒基材。在一个实施方案中，该方法可以用于清洁基材并使基材灭菌。

在一个实施方案中，上述方法可用于将患者污物(和/或通常被FDA所接受的代表更坏情况生物负荷的模拟污物)的生物负荷降低至小于约6微克每平方厘米的水平。

在一个实施方案中，上述方法可用于提供单独的清洁和消毒步骤，同时使被处理的基材(例如内窥镜)的构造材料的有害影响最小化。