[发明专利]工艺用脱模膜、其用途、以及使用其的树脂密封半导体的制造方法有效

专利信息
申请号: 201680065928.5 申请日: 2016-12-02
公开(公告)号: CN108349122B 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 清水胜;志摩健二 申请(专利权)人: 三井化学东赛璐株式会社
主分类号: B29C33/68 分类号: B29C33/68;H01L21/56
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟晶;陈彦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 工艺 脱模 用途 以及 使用 树脂 密封 半导体 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种工艺用脱模膜,其是包含脱模层1A和耐热树脂层1B的层叠膜,

所述脱模层1A相对于水的接触角为90°到130°,

所述层叠膜在横向即TD方向的从23℃到120℃为止的热尺寸变化率为3%以下,

其中,所述从23℃到120℃为止的热尺寸变化率,以施加0.005N的荷重状态,以23℃保持5分钟后,从23℃以10℃/分钟的升温速度升温到120℃进行测定,从23℃时的样本长及120℃时的样本长算出。

2.如权利要求1所述的工艺用脱模膜,所述层叠膜在横向即TD方向的从23℃到120℃为止的热尺寸变化率与在纵向即MD方向的从23℃到120℃为止的热尺寸变化率之和为6%以下。

3.一种工艺用脱模膜,其是包含脱模层1A和耐热树脂层1B的层叠膜,

所述脱模层1A相对于水的接触角为90°到130°,

所述层叠膜在横向即TD方向的从23℃到170℃为止的热尺寸变化率为4%以下,

其中,所述从23℃到170℃为止的热尺寸变化率,以施加0.005N的荷重状态,以23℃保持5分钟后,从23℃以10℃/分钟的升温速度升温到170℃进行测定,从23℃时的样本长及170℃时的样本长算出。

4.如权利要求3所述的工艺用脱模膜,所述层叠膜在横向即TD方向的从23℃到170℃为止的热尺寸变化率与在纵向即MD方向的从23℃到170℃为止的热尺寸变化率之和为7%以下。

5.如权利要求1至4中任一项所述的工艺用脱模膜,所述耐热树脂层1B在横向即TD方向的从23℃到120℃为止的热尺寸变化率为3%以下,

其中,所述从23℃到120℃为止的热尺寸变化率,以施加0.005N的荷重状态,以23℃保持5分钟后,从23℃以10℃/分钟的升温速度升温到120℃进行测定,从23℃时的样本长及120℃时的样本长算出。

6.如权利要求5所述的工艺用脱模膜,所述耐热树脂层1B在横向即TD方向的从23℃到120℃为止的热尺寸变化率与在纵向即MD方向的从23℃到120℃为止的热尺寸变化率之和为6%以下。

7.如权利要求1至4中任一项所述的工艺用脱模膜,所述耐热树脂层1B在横向即TD方向的从23℃到170℃为止的热尺寸变化率为3%以下,

其中,所述从23℃到170℃为止的热尺寸变化率,以施加0.005N的荷重状态,以23℃保持5分钟后,从23℃以10℃/分钟的升温速度升温到170℃进行测定,从23℃时的样本长及170℃时的样本长算出。

8.如权利要求7所述的工艺用脱模膜,所述耐热树脂层1B在横向即TD方向的从23℃到170℃为止的热尺寸变化率与在纵向即MD方向的从23℃到120℃为止的热尺寸变化率之和为4%以下,

其中,所述从23℃到120℃为止的热尺寸变化率,以施加0.005N的荷重状态,以23℃保持5分钟后,从23℃以10℃/分钟的升温速度升温到120℃进行测定,从23℃时的样本长及120℃时的样本长算出。

9.如权利要求1至4中任一项所述的工艺用脱模膜,所述脱模层1A包含选自由氟树脂、4-甲基-1-戊烯(共)聚合物及聚苯乙烯系树脂组成的组中的树脂。

10.如权利要求1至4中任一项所述的工艺用脱模膜,所述耐热树脂层1B包含延伸膜而成。

11.如权利要求10所述的脱模膜,所述延伸膜选自由延伸聚酯膜、延伸聚酰胺膜及延伸聚丙烯膜组成的组中。

12.如权利要求1至4中任一项所述的工艺用脱模膜,所述耐热树脂层1B在第1次升温工序中的晶体熔化热为15J/g以上且60J/g以下,所述晶体熔化热是以JISK7221为准并通过差示扫描热量测定即DSC进行测定的。

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