[发明专利]光学体、原盘、以及光学体的制造方法

说明书

本发明提供一种防反射特性进一步提高且制作容易的、新的且改良了的光学体、原盘、以及光学体的制造方法。为了解决上述课题，根据本发明的某种观点，提供一种如下的光学体，即，所述光学体具有凹凸构造，其中具有凸形状或凹形状的构造体以可见光波长以下的平均周期排列，构造体具有相对于与光学体的厚度方向垂直的任意一个平面方向而非对称的形状。根据所述观点，防反射特性会进一步提高且制作变得容易。

技术领域

本发明涉及一种光学体、原盘(master)、以及光学体的制造方法。

背景技术

通常，作为电视等显示装置以及照相机透镜等光学元件，为了使表面反射减少且使透过光增加，而在光的入射面施加反射抑制处理。作为这样的反射抑制处理,例如，提出了使在表面形成有凹凸构造的光学体形成于光的入射面的方案。在此，形成于光学体的表面的凹凸构造由多个凸部及凹部形成,凸部间的排列间距及凹部间的排列间距成为可见光波长以下。

作为这样的光学体的表面，由于相对于入射光的折射率的变化平缓,因此不会发生成为反射的原因的急剧的折射率的变化。因此，通过将这样的凹凸构造形成于光的入射面的表面，从而能够在宽的波长带中抑制入射光的反射。

专利文献1～3公开了一种涉及这种光学体的技术。在专利文献1所公开的技术中，为了防止转印材料对铸模的充填不良、因剥离阻力而造成的转印产品的凸部缺损、以及被转印后的微细凹凸构造的凸部的图案崩塌，而在光学体的表面无规则地配置凸部的密集区域。

在专利文献2所公开的技术中，为了抑制衍射光的发生，而使凹凸的排列图案偏离正多边形状的排列图案。在专利文献3所公开的技术中，为了易于控制凹凸的排列间距等，而利用溅射法无规则地形成凹凸。在专利文献4所公开的技术中，以规定的排列图案来排列具有对称的形状的凹凸。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2014-066976号公报

专利文献2：日本特开2015-038579号公报

专利文献3：日本特开2015-060983号公报

专利文献4：日本特开2009-258751号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，专利文献1～4所公开的技术在光学体的防反射特性方面仍然不足。另外，作为提高光学体的防反射特性的方法，提出了如下方案，如专利文献4所公开的那样，使构成凹凸构造的凸部彼此重合的方法。根据该方法，凹凸构造的密度提高，因此可以期待光学体的防反射特性提高。然而，在将该方法应用于现有的凹凸构造的情况下，需要使凸部彼此较大程度地重合，以实现所希望的防反射特性。因此，存在另一问题是原盘的凹凸构造的转印性恶化。

即，光学体是通过使用表面形成有凹凸构造的原盘来作为转印模而制作出。被形成于原盘的表面的凹凸构造具有被形成于光学体的表面的凹凸构造的翻转形状。该方法为，在基材上形成未固化树脂层，并将原盘的凹凸构造转印到该未固化树脂层上。之后，对未固化树脂层进行固化。随后，将原盘与固化了的未固化树脂层、即固化树脂层剥离。固化树脂层上转印有原盘的凹凸构造。通过以上的工序，从而制作出光学体。在此，在凸部彼此较大程度地重合的情况下，凹部成为非常微细的形状。即，凹部的底面积变得非常小。因此，被形成在原盘上的凸部成为非常微细的形状。因此，将原盘的凹凸构造准确地转印到未固化树脂层是非常困难的。即，原盘的凹凸构造的转印性恶化。并且，当转印性恶化时，原盘的凹凸构造不会准确地反映到光学体上，因此光学体的防反射特性有可能会恶化。

于是，本发明是鉴于上述问题而完成的，本发明的目的在于，提供一种防反射特性进一步提高且制作容易的、新的且改良了的光学体、原盘、以及光学体的制造方法。

用于解决课题的方法