[发明专利]气体阻隔性膜及电子器件

权利要求书

1.一种气体阻隔性膜，其为在基材上具有气体阻隔层的气体阻隔性膜，其特征在于，

上述气体阻隔层至少在厚度方向上沿厚度方向连续地具有5nm以上的混合区域，该混合区域是含有非过渡金属M1及过渡金属M2的区域，上述过渡金属M2对于上述非过渡金属M1的原子数比的值(M2/M1)在0.02～49的范围内，

上述基材在23℃·55％RH的环境下测定光波长590nm处的用下述式(i)定义的延迟值Ro的绝对值在0～30nm的范围内，

式(i)：Ro＝(n_x-n_y)×d(nm)

式(i)中，Ro表示基材的面内延迟值；d表示基材的膜厚，n_x表示基材的面内的最大(滞相轴方向)的折射率；n_y表示在基材的面内与滞相轴成直角的方向(进相轴方向)的折射率，予以说明，测定条件与上述相同。

2.根据权利要求1所述的气体阻隔性膜，其特征在于，上述气体阻隔层在含有上述过渡金属M2作为主成分的区域与含有上述非过渡金属M1作为主成分的区域之间具有上述混合区域。

3.根据权利要求1或2所述的气体阻隔性膜，其特征在于，上述非过渡金属M1为硅(Si)。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的气体阻隔性膜，其特征在于，上述过渡金属M2为长式元素周期表的第5族元素。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的气体阻隔性膜，其特征在于，上述过渡金属M2为铌(Nb)或钽(Ta)。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的气体阻隔性膜，其特征在于，在上述混合区域的组成中还含有氧。

7.根据权利要求6所述的气体阻隔性膜，其特征在于，用下述化学组成式(1)表示上述混合区域的组成时，上述混合区域的至少一部分满足下述关系式(2)：

化学组成式(1)：(M1)(M2)_xO_yN_z

关系式(2)：(2y+3z)/(a+bx)＜1.0

式中，M1表示非过渡金属，M2表示过渡金属，O表示氧，N表示氮，x、y、z表示化学计量系数，0.02≤x≤49，0＜y，0≤z，a表示M1的最大价数，b表示M2的最大价数。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的气体阻隔性膜，其特征在于，上述基材含有选自甲基丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸-马来酸共聚物、聚酰亚胺、氟化聚酰亚胺树脂、聚醚酰亚胺树脂、纤维素酰化物树脂、聚碳酸酯树脂、脂环式聚烯烃树脂及聚芳酯树脂中的树脂。

9.一种电子器件，其特征在于，具备根据权利要求1-8中任一项所述的气体阻隔性膜。

10.根据权利要求9所述的电子器件，其特征在于，具有含有量子点的树脂层。

11.根据权利要求9所述的电子器件，其特征在于，具备有机电致发光元件。