[发明专利]包含四族有机化合物的前驱体组合物及利用它的薄膜形成方法

权利要求书

1.一种前驱体组合物，其特征在于，包含从有机铝化合物、有机镓化合物及有机锗化合物中选择的任一化合物和四族有机化合物的混合物。

2.如权利要求1所述的前驱体组合物，其特征在于，

上述有机铝化合物用下述<化学式1>表示：

<化学式1>

在上述<化学式1>中，L₁及L₂是各自独立地选自碳原子数为1至6的烷基、碳原子数为3至6的环烷基中的任一个，R₁及R₂是各自独立地选自碳原子数为1至6的烷基、碳原子数为3至6的环烷基中的任一个。

3.如权利要求2所述的前驱体组合物，其特征在于，

上述有机铝化合物用下述<化学式2>表示：

<化学式2>

4.如权利要求2所述的前驱体组合物，其特征在于，

上述有机铝化合物用下述<化学式3>表示：

<化学式3>

5.如权利要求2所述的前驱体组合物，其特征在于，

上述有机铝化合物用下述<化学式4>表示：

<化学式4>

6.如权利要求2所述的前驱体组合物，其特征在于，

上述有机铝化合物用下述<化学式5>表示：

<化学式5>

7.如权利要求6所述的前驱体组合物，其特征在于，

上述有机铝化合物用下述<化学式6>表示：

<化学式6>

8.如权利要求1所述的前驱体组合物，其特征在于，

上述有机镓化合物用下述<化学式7>表示：

<化学式7>

在上述<化学式7>中，L′₁及L′₂是各自独立地选自碳原子数为1至6的烷基、碳原子数为3至6的环烷基中的任一个，R′₁及R′₂是各自独立地选自碳原子数为1至6的烷基、碳原子数为3至6的环烷基中的任一个。

9.如权利要求8所述的前驱体组合物，其特征在于，

上述有机镓化合物用下述<化学式8>表示：

<化学式8>

10.如权利要求8所述的前驱体组合物，其特征在于，

上述有机镓化合物用下述<化学式9>表示：

<化学式9>

11.如权利要求8所述的前驱体组合物，其特征在于，

上述有机镓化合物用下述<化学式10>表示：

<化学式10>

12.如权利要求8所述的前驱体组合物，其特征在于，

上述有机镓化合物用下述<化学式11>表示：

<化学式11>