[发明专利]重影减少装置和具备其的摄像装置、重影减少方法、以及摄像光学系统有效
申请号: | 201680068721.3 | 申请日: | 2016-11-24 |
公开(公告)号: | CN108292023B | 公开(公告)日: | 2021-06-01 |
发明(设计)人: | 泷上耕太郎;泽田保宏 | 申请(专利权)人: | 神威创新株式会社 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00;G02B7/02;G02B27/00;G03B11/04;H04N5/225 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 王岳;闫小龙 |
地址: | 日本北海*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 重影 减少 装置 具备 摄像 方法 以及 光学系统 | ||
提供了一边为简易且便宜的结构一边能够有效地减少重影的重影减少装置和具备其的摄像装置、重影减少方法、以及摄像光学系统。在本发明的重影减少装置1A中,具有使光通过的1个或多个开口部11a并且将所述开口部11a关于摄像光学系统2的光轴的对称位置全部遮光的遮光板11被配置在所述摄像光学系统2中的光瞳位置附近。
技术领域
本发明涉及能够减少起因于太阳等高亮度被摄物的重影的重影减少装置和具备其的摄像装置、重影减少方法、以及摄像光学系统。
背景技术
以往,已知:当来自太阳等高亮度被摄物的光入射到摄像光学系统中时,被透镜的表面或镜筒的内面等反射而成为杂散光。这样的杂散光成为在摄像画面内形成不意图的像(重影)的原因,因此,为了减少该重影而提出了用于防止杂散光的技术。
例如,在日本特开平10-62669号公报中,公开了通过与基于光圈值而变化的有效光束对应地使开口的作用的大小变化来减少重影的技术(专利文献1)。此外,在日本特开平8-334725号公报中,提出了将光圈限制到比开放值小的光圈值来除去有害光的技术。进而,还提出了通过透镜面的涂敷来降低反射率而抑制重影的方法(专利文献2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平10-62669号公报;
专利文献2:日本特开平8-334725号公报。
发明内容
发明要解决的课题
然而,在上述那样的以往的重影减少技术中,存在以下这样的问题:依然存在未除尽杂散光而产生重影的情况。此外,在专利文献1、2所记载的发明中,由于需要控制开口的大小或光圈,所以还存在装置复杂化并且成本变高这样的问题。
本发明是为了解决这样的问题点而完成的,其目的在于提供一边为简易且便宜的结构一边能够有效地减少重影的重影减少装置和具备其的摄像装置、重影减少方法、以及摄像光学系统。
用于解决课题的方案
在本发明的重影减少装置中,具有使光通过的1个或多个开口部并且将所述开口部关于摄像光学系统的光轴的对称位置全部遮光的遮光板被配置在所述摄像光学系统中的光瞳位置附近。
此外,作为本发明的一个方式,关于与所述光轴正交的直线仅在单侧一方形成1个所述开口部也可。
进而,作为本发明的一个方式,所述开口部被形成为以从所述光轴偏心的位置为中心的1个圆形也可。
此外,作为本发明的一个方式,也可以具有:进退驱动单元,使所述遮光板相对于所述摄像光学系统进退;光检测单元,对光的强度进行检测;以及控制单元,对由所述光检测单元检测出的光的强度进行监视,对所述进退驱动单元进行控制,以使在所述光的强度为规定的阈值以上的情况下配置为使所述遮光板进入所述摄像光学系统,并且,在所述光的强度比规定的阈值小的情况下使所述遮光板从所述摄像光学系统退避。
此外,本发明的摄像装置具备具有上述的任一个方式的重影减少装置而成。
进而,本发明的重影减少方法在摄像光学系统中的光瞳位置附近配置具有使光通过的1个或多个开口部并且将所述开口部关于摄像光学系统的光轴的对称位置全部遮光的遮光板,利用所述遮光板对来自摄像元件的反射光进行遮光。
此外,本发明的摄像光学系统是,一种摄像光学系统,经由透镜使来自被摄物的光在摄像元件成像,其中,具有使光通过的1个或多个开口部并且将所述开口部关于所述摄像光学系统的光轴的对称位置全部遮光的遮光板被配置在所述摄像光学系统中的光瞳位置附近。
发明效果
根据本发明,一边为简易且便宜的结构一边能够有效地减少重影。
附图说明
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