[发明专利]用于保持基板的保持布置、包括保持布置的载体、采用载体的处理系统和从保持布置释放基板的方法

说明书

描述了一种用于保持基板(101)的保持布置(100)。保持布置包括主体(110)、粘合布置(130)和传力布置(140)。主体(110)具有由柔性材料组成的第一壁(120)。粘合布置(130)用于附接基板，其中粘合布置(130)提供在第一壁(120)的第一侧(121)上。传力布置(140)用于将力施加到第一壁(120)的第二侧(122)，第二侧(122)与第一壁(120)的第一侧(121)相对。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及一种用于保持基板的保持布置(holdingarrangement)、一种用于保持基板的载体、一种用于处理基板的处理系统、以及一种从保持布置释放基板的方法。本公开内容的实施方式具体地涉及一种用于在真空处理腔室中进行基板处理期间保持基板的保持布置、一种用于在真空处理腔室中保持基板的载体、一种包括沉积源的真空处理系统、以及一种用于在进行基板处理之后、具体地在进行涂布之后释放基板的方法。

背景技术

用于在基板上进行层沉积的技术例如包括热蒸发、化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)，诸如溅射沉积。溅射沉积工艺可以用于在基板上沉积材料层，诸如绝缘材料层。在溅射沉积工艺期间，用等离子体区中产生的离子轰击具有将沉积于基板上的靶材料的靶材以从靶材表面上击出(dislodge)靶材料的原子。击出的原子可在基板上形成材料层。在反应溅射沉积工艺中，被击出的原子可与等离子体区域中的气体(例如，氮或氧)反应，以在基板上形成靶材料的氧化物、氮化物或氮氧化物。

涂层材料可以用于数种应用和数个技术领域。例如，涂层材料可以用于微电子领域，诸如用于生产半导体器件。此外，可使用PVD工艺对显示器的基板进行涂布。另外应用包括绝缘面板、有机发光二极管(OLED)面板、具有薄膜晶体管(TFT)的基板、滤色片或类似物。

朝更大且也更薄的基板的趋势可能因为施加于基板的压力(例如于沉积工艺期间)而导致基板隆起。具体地，在沉积工艺中保持基板的常规支撑系统使基板上产生隆起，例如由于将基板边缘推向基板中心的力。基板隆起进而可能因基板破裂的可能性增加而产生问题。再者，从支撑系统(例如基板载体)释放大面积薄基板而不对基板造成隆起或破坏是有挑战性的。

鉴于上述，需要提供一种用于保持基板的保持布置、一种用于支撑基板的载体、处理系统、用于从保持布置释放基板的方法以至少克服本领域中的某些问题。

发明内容

鉴于上述问题，提供一种用于保持基板的保持布置、一种用于保持基板的载体、一种处理系统和一种用于从保持布置释放基板的方法。本公开内容进一步的方面、效果和特征根据权利要求书、说明书和附图是显而易见的。

根据本公开内容的一个方面，提供一种用于保持基板的保持布置。保持布置包括主体、粘合布置、传力布置(force transmission arrangement)。主体具有由柔性材料组成的第一壁。粘合布置用于附接基板，其中粘合布置提供在第一壁的第一侧上。传力布置用于将力施加到第一壁的第二侧，第二侧与第一侧相对。

根据本公开内容的另一方面，提供一种用于保持基板的载体。载体包括：载体主体；和根据本文所述的任何实施方式的一个或多个保持布置，其中一个或多个保持布置安装在载体主体上。

根据本公开内容的又一方面，提供一种处理系统。处理系统包括：处理腔室；处理装置；和根据本文所述的任何实施方式的载体。

根据本公开内容的再一方面，提供一种用于从保持布置释放基板的方法。方法包括：提供根据本文所述的任何实施方式的保持布置；将力施加到第一壁的第二侧，使得使主体的第一壁弯曲。

实施方式也涉及了用于执行所公开的方法的设备，并且包括用于执行每个所描述的方法方面的设备零件。可通过硬件部件、由适当的软件编程的计算机、这两者的任何组合或任何其他方法来执行这些方法方面。再者，根据本公开内容的实施方式也涉及了用于操作所描述的设备的方法。用于操作所描述的设备的方法包括用于执行设备的每个功能的方法方面。