[发明专利]活性气体生成装置及成膜处理装置有效
申请号: | 201680069682.9 | 申请日: | 2016-01-18 |
公开(公告)号: | CN108293291B | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 渡边谦资;西村真一;田畑要一郎 | 申请(专利权)人: | 东芝三菱电机产业系统株式会社 |
主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24;C23C16/513 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘英华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 活性 气体 生成 装置 处理 | ||
1.一种活性气体生成装置,具有:
第1电极构成部(1A);
第2电极构成部(2A,2B),设置在所述第1电极构成部的下方;以及
交流电源部(5),对所述第1电极构成部及所述第2电极构成部施加交流电压,
通过基于所述交流电源部的所述交流电压的施加,在所述第1电极构成部及所述第2电极构成部间形成放电空间,并生成使供给到所述放电空间中的原料气体活性化而获得的活性气体,所述活性气体生成装置的特征在于,
所述第1电极构成部具有第1电介体电极(111,112)和在所述第1电介体电极的上表面上形成的第1金属电极(101H,101L),所述第2电极构成部具有第2电介体电极(211,212)和在所述第2电介体电极的下表面上形成的第2金属电极(201H,201L),由于所述交流电压的施加,在所述第1电介体电极及所述第2电介体电极对置的电介体空间内,所述第1金属电极及所述第2金属电极在俯视时重复的区域被规定为所述放电空间,
所述第2金属电极具有在俯视时夹着所述第2电介体电极的中央区域(R50)互相对置而形成的一对第2部分金属电极(201H,201L),所述一对第2部分金属电极将第1方向作为电极形成方向,将与所述第1方向交叉的第2方向作为互相对置的方向,
所述第1金属电极具有一对第1部分金属电极(110H,110L),该一对第1部分金属电极(110H,110L)具有俯视时与所述一对第2部分金属电极重复的区域,
所述第2电介体电极具备:
气体喷出孔(55),形成于所述中央区域,用于将所述活性气体向外部喷出;以及
中央区域台阶部(51),在所述中央区域向上方突出而形成,
所述中央区域台阶部形成为,在俯视时不与所述气体喷出孔重复,随着在俯视时靠近所述气体喷出孔,所述第2方向的形成宽度变短。
2.根据权利要求1所述的活性气体生成装置,其中,
所述气体喷出孔包含在所述中央区域沿着所述第1方向形成的多个气体喷出孔,
所述中央区域台阶部形成为,在俯视时随着靠近所述多个气体喷出孔中的每个气体喷出孔,所述第2方向的形成宽度变短。
3.根据权利要求2所述的活性气体生成装置,其中,
通过所述中央区域台阶部的形成高度,规定所述放电空间中的间隙长。
4.根据权利要求3所述的活性气体生成装置,其中,
所述第2电介体电极,
在所述第1方向的两端侧还具有向上方突出而形成的一对端部区域台阶部(52A,52B),所述一对端部区域台阶部俯视时在所述第2方向上延伸并遍及所述第2电介体电极的所述第2方向的全长而形成,通过所述中央区域台阶部的形成高度以及所述一对端部区域台阶部的形成高度,规定所述放电空间中的间隙长。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的活性气体生成装置,其中,
将从所述放电空间到所述多个气体喷出孔的在所述第2方向上的距离即非放电距离设定为10mm以上。
6.根据权利要求5所述的活性气体生成装置,其中,
所述第1金属电极及所述第2金属电极的平面形状被设定为,在所述放电空间与所述中央区域台阶部之间,俯视时两者的最短距离为规定基准距离以上。
7.根据权利要求2至4中任一项所述的活性气体生成装置,其中,
所述第1金属电极和所述第2金属电极的平面形状的一部分形成为不同。
8.根据权利要求1至4中任一项所述的活性气体生成装置,其中,
将石英、氧化铝、氮化硅或者氮化铝作为构成材料,形成所述第1电极构成部及所述第2电极构成部中的、与活性气体接触的区域即气体接触区域。
9.根据权利要求1至4中任一项所述的活性气体生成装置,其中,
所述原料气体是包括氮、氧、氟及氢中的至少一种的气体。
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