[发明专利]用于快速自动确定用于高效计量的信号的系统、方法及计算机程序产品有效
申请号: | 201680070555.0 | 申请日: | 2016-12-08 |
公开(公告)号: | CN108291868B | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | A·吉里纽;A·库兹涅佐夫;J·亨奇 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/21 | 分类号: | G01N21/21;G01N21/01 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 快速 自动 确定 高效 计量 信号 系统 方法 计算机 程序 产品 | ||
1.一种测量方法,其包括:
经由执行模拟器模块的处理器来模拟用于测量计量目标的一或多个参数的信号集合,所述信号集合中的每一信号具有用于测量所述计量目标的所述一或多个参数的一或多个配置;
基于经模拟的信号集合的协方差矩阵和所述经模拟的信号集合的雅可比矩阵产生对应于所述经模拟的信号集合的归一化雅可比矩阵;
基于所述归一化雅可比矩阵来选择所述经模拟的信号集合中的信号子集,所述信号子集优化与测量所述计量目标的所述一或多个参数相关联的性能度量,其中所述信号子集包含少于所述信号集合的信号;及
利用计量工具来收集在选定的所述信号子集中使用的所述计量目标的所述一或多个参数的测量,其中所述计量工具包含以下各者中的一者:
光谱椭偏仪SE;
具有多个照明角度的SE;
测量米勒矩阵元素的SE;
单波长椭偏仪;
光束轮廓椭偏仪;
光束轮廓反射计;
宽带反射式光谱仪;
单波长反射计;
角分辨反射计;
成像系统;
散射计;
小角x射线散射SAXS装置;
x射线粉末衍射XRD装置;
x射线荧光XRF装置;
x射线光电子光谱XPS装置;
x射线反射率XRR装置;
拉曼光谱装置;
扫描电子显微术SEM装置;
隧穿电子显微镜TEM装置;及
原子力显微镜AFM装置。
2.根据权利要求1所述的测量方法,其中选择所述信号子集包括:
产生所述计量目标的所述一或多个参数的协方差矩阵;
通过将所述归一化雅可比矩阵的每一行投影到所述协方差矩阵的一或多个特征向量上来计算所述行的赋范投影值;及
选择所述经模拟的信号集合中与具有最大赋范投影值的所述归一化雅可比矩阵的所述行对应的数个信号作为所述信号子集。
3.根据权利要求2所述的测量方法,其中计算每一行的所述赋范投影值包括乘以权重。
4.根据权利要求3所述的测量方法,其中根据包含以下各者中的至少一者的准则来设置所述权重:所述计量工具的选择、波长、入射角、方位角、偏光、焦距、积分时间,或与所述测量相关联的其它参数。
5.根据权利要求1所述的测量方法,其中所述一或多个参数包含所述计量目标的临界尺寸及材料特性中的至少一者。
6.根据权利要求1所述的测量方法,其中所述性能度量是基于每一参数的所述测量的精度。
7.根据权利要求1所述的测量方法,其中所述性能度量是利用权重系数组合多个性能度量的统一性能度量。
8.根据权利要求1所述的测量方法,其中所述模拟器模块包括基于系统的模型来产生所述信号集合的指令,所述系统包含所述计量工具及由建模参数集合定义的晶片上的一或多个计量目标。
9.根据权利要求1所述的测量方法,其进一步包括:
利用所述计量工具来收集使用选定的所述信号子集的一或多个额外计量目标的一或多个参数的测量;及
分析针对所述计量目标及所述一或多个额外计量目标所收集的所述测量,以确定所述计量目标中的每一者的所述一或多个参数,
其中确定特定计量目标的所述一或多个参数包含分析与至少一个其它计量目标相关联的测量。
10.根据权利要求9所述的测量方法,其中利用针对所述计量目标及所述一或多个额外计量目标所收集的所述测量作为参考信号集合,以校准高处理量计量工具。
11.根据权利要求9所述的测量方法,其中所述计量工具是x射线计量工具。
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