[发明专利]用于在基板上沉积材料的设备、用于在基板上沉积一个或多个层的系统和用于监视真空沉积系统的方法

说明书

本公开内容提供一种用于在基板(10)上沉积材料的设备(100)。设备(100)包括真空腔室(110)；至少一个沉积源(120)，位于真空腔室(110)中；塑形装置(130)，位于所述至少一个沉积源(120)处，其中塑形装置(130)经构造以阻挡至少一部分从所述至少一个沉积源(120)发射的材料；和摄影机装置(140)，位于真空腔室(110)中，其中摄影机装置(140)经构造以监视塑形装置(130)上的材料累积。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及一种用于在基板上沉积材料的设备，一种用于在基板上沉积一个或多个层的系统和一种用于监视真空沉积系统的方法。本公开内容的实施方式特别涉及有机发光二极管(organic light-emitting diode，OLED)装置的制造中的有机材料的沉积。

背景技术

用于在基板上沉积层的技术包括举例为热蒸发、物理气相沉积(physical vapordeposition，PVD)和化学气相沉积(chemical vapor deposition，CVD)。经涂覆的基板可使用于若干应用中和若干技术领域中。举例来说，经涂覆的基板可使用于有机发光二极管(organic light-emitting diodes，OLED)装置的领域中。OLEDs可使用于制造用于显示信息的电视屏幕、计算机屏幕、移动电话、其他手持装置和类似者。OLED装置例如是OLED显示器，可包括一个或多个有机材料层，位于都沉积于基板上的两个电极之间。

可使用蒸发源以在基板上沉积层，例如是在基板上沉积有机材料的一个或多个层。蒸发的材料也可沉积于真空沉积系统的各种部件上。举例为在预定维护(service)间隔中，应从至少一些部件移除沉积的材料，以确保真空沉积系统的可操作性。

有鉴于上述，克服本领域中的至少一些问题的用于在基板上沉积材料的新设备、用于在基板上沉积一个或多个层的新系统和用于监视真空沉积系统的新方法是有益的。本公开内容特别是旨在提供一种可提供有效率的清洁工艺以减少真空沉积系统的停机时间(downtime)的设备、系统和方法。

发明内容

有鉴于上述，提供一种用于在基板上沉积材料的设备、一种用于在基板上沉积一个或多个层的系统和一种用于监视真空沉积系统的方法。本公开内容的其他方面、优点和特征通过权利要求书、说明书和附图而清楚。

根据本公开内容的一个方面，提供一种用于在基板上沉积材料的设备。所述设备包括真空腔室；至少一个沉积源，位于真空腔室中；塑形装置(shaper device)，位于所述至少一个沉积源处，其中塑形装置经装配以阻挡至少一部分从所述至少一个沉积源发射的材料；和摄影机装置，位于真空腔室中，其中摄影机装置经构造以监视塑形装置上的材料累积。

根据本公开内容的另一方面，提供一种用于在基板上沉积一个或多个层的系统。所述系统包括根据本文所述实施方式的用于在基板上沉积材料的设备；装载锁定腔室，连接于真空腔室，用于将基板装载至真空腔室中；和卸载锁定腔室，连接于真空腔室，用于从真空腔室卸载具有沉积在基板上的一个或多个层的基板。

根据本公开内容的其他方面，提供一种用于监视真空沉积系统的方法。所述方法包括利用蒸发源蒸发用于沉积于基板上的材料；和利用安装于真空腔室中的摄影机装置监视塑形装置上的材料累积，塑形装置经构造以阻挡至少一部分从蒸发源发射的材料。

实施方式还涉及用于执行所公开的方法的设备，并且包括用于执行各所述的方法方面的设备部分。这些方法方面可通过硬件部件、由合适的软件程序编程的计算机、两者的任何结合或任何其他方式执行。此外，根据本公开内容的实施方式还涉及用于操作所述的设备的方法。用于操作所述的设备的方法包括用于执行设备的每个功能的方法方面。

附图说明

为了可详细理解本公开内容的上述特征，可参照实施方式而具有简要概述于上的本公开内容的更具体的说明。附图涉及本公开内容的实施方式并且说明于下方：