[发明专利]酚醛清漆型树脂及抗蚀膜有效
申请号: | 201680071738.4 | 申请日: | 2016-11-17 |
公开(公告)号: | CN108368214B | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 今田知之;佐藤勇介 | 申请(专利权)人: | DIC株式会社 |
主分类号: | C08G8/28 | 分类号: | C08G8/28;C08L61/12;G03F7/039 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 酚醛 清漆 树脂 抗蚀膜 | ||
提供显影性、耐热性及耐干蚀刻性优异的酚醛清漆型树脂、含有其的感光性组合物、固化性组合物及抗蚀膜。一种酚醛清漆型树脂,其特征在于,具有下述结构式(1)或(2)[式中,Ar表示亚芳基。R1各自独立地为氢原子、烷基、烷氧基、卤素原子中的任意者,m各自独立地为1~3的整数。X为氢原子、叔烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧基羰基、含杂原子的环状烃基、三烷基甲硅烷基中的任意者。]所示的结构部位作为重复单元,树脂中存在的X中的至少一个为叔烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧基羰基、含杂原子的环状烃基、三烷基甲硅烷基中的任意者。
技术领域
本发明涉及显影性、耐热性及耐干蚀刻性优异的酚醛清漆型树脂及使用其而成的抗蚀膜。
背景技术
含酚羟基的树脂除了用于粘接剂、成形材料、涂料、光致抗蚀剂材料、环氧树脂原料、环氧树脂用固化剂等以外,由于固化物的耐热性、耐湿性等优异,因此还作为以含酚羟基的树脂自身为主剂的固化性组合物、或作为环氧树脂等的固化剂,在半导体封装材料、印刷电路板用绝缘材料等电气·电子领域中被广泛使用。
其中在光致抗蚀剂的领域中,相继开发出了根据用途、功能而进行了细分化的多种多样的抗蚀图案形成方法,随之对抗蚀剂用树脂材料的要求性能也高度化并且多样化。例如,为了准确且以高的生产效率在高集成化的半导体上形成微细的图案,当然要求高的显影性,在用于抗蚀剂下层膜的情况下,要求耐干蚀刻性、耐热性等,另外,在用于抗蚀剂永久膜的情况下,要求特别高的耐热性。
在光致抗蚀剂用途中使用最广泛的含酚羟基的树脂为甲酚酚醛清漆型的含酚羟基的树脂,然而其不能够应对如前所述的日益高度化且多样化的近来的市场要求的性能,且耐热性、显影性也不充分(参照专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平2-55359号公报
发明内容
因此,本发明要解决的问题在于,提供显影性、耐热性及耐干蚀刻性优异的酚醛清漆型树脂、含有其的感光性组合物、固化性组合物、抗蚀膜。
本发明人等为了解决上述问题而进行了深入研究,结果发现,向使4官能度酚类化合物和甲醛反应而得到的梯(ladder)形酚醛清漆型含酚羟基的树脂中导入酸解离性保护基团而得到的树脂的显影性、耐热性及耐干蚀刻性优异,至此完成了本发明。
即,本发明涉及一种酚醛清漆型树脂,其特征在于,具有下述结构式(1)或(2)所示的结构部位作为重复单元,树脂中存在的X中的至少一个为叔烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧基羰基、含杂原子的环状烃基、三烷基甲硅烷基中的任意者。
[式中,Ar表示亚芳基。R1各自独立地为氢原子、烷基、烷氧基、卤素原子中的任意者,m各自独立地为1~3的整数。X为氢原子、叔烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧基羰基、含杂原子的环状烃基、三烷基甲硅烷基中的任意者。]
本发明还涉及一种感光性组合物,其含有前述酚醛清漆型树脂和感光剂。
本发明还涉及一种抗蚀膜,其包含前述感光性组合物。
本发明还涉及一种固化性组合物,其含有前述酚醛清漆型树脂和固化剂。
本发明还涉及一种抗蚀膜,其包含前述固化性组合物。
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