[发明专利]光学元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201680071819.4 申请日: 2016-10-06
公开(公告)号: CN108474976B 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 佐佐木友之;小野浩司;川月喜弘;后藤耕平 申请(专利权)人: 公立大学法人兵库县立大学;国立大学法人长冈技术科学大学;日产化学工业株式会社
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;C09K19/20;C09K19/30;C09K19/32;C09K19/38;G02B5/30;G02F1/1337
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 元件 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光学元件,其是依次具有I)第一透明基体层;II)取向处理过的第一液晶取向膜层;III)填充光反应性液晶组合物的液晶层;IV)第二透明基体层而形成的光学元件,

所述III)液晶层中的光反应性液晶组合物具有:

(A)具有下述式(1)或(2)的光反应性侧链的光反应性高分子液晶;以及

(B)低分子液晶;

式(1)~(2)中,A、B、D各自独立地表示单键、-O-、-CH2-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH=CH-CO-O-、或-O-CO-CH=CH-;

S为碳数1~12的亚烷基,键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代;

T为单键或碳数1~12的亚烷基,键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代;

Y1表示选自一价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5~8的脂环式烃中的环,或者为选自这些取代基中的相同或不同的2~6个环借助连接基团B键合而形成的基团,键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR0、-NO2、-CN、-CH=C(CN)2、-CH=CH-CN、卤素基团、碳数1~5的烷基、或碳数1~5的烷氧基取代,式中,R0表示氢原子或碳数1~5的烷基;

Y2为选自由二价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5~8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团,键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO2、-CN、-CH=C(CN)2、-CH=CH-CN、卤素基团、碳数1~5的烷基、或碳数1~5的烷氧基取代;

R表示羟基、碳数1~6的烷氧基,或者表示与Y1相同的定义;

X表示单键、-COO-、-OCO-、-N=N-、-CH=CH-、-C≡C-、-CH=CH-CO-O-、或-O-CO-CH=CH-,X的数量为2时,X彼此任选相同或不同;

P和Q各自独立地为选自由二价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5~8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团;其中,X为-CH=CH-CO-O-、-O-CO-CH=CH-时,-CH=CH-所键合一侧的P或Q为芳香环,P的数量为2以上时,P彼此任选相同或不同,Q的数量为2以上时,Q彼此任选相同或不同;

l1为0或1;

l2为0~2的整数;

l1和l2均为0时,T为单键时A也表示单键;

l1为1时,T为单键时B也表示单键;

其中,对于所述III)液晶层的光反应性液晶组合物,将所述组合物曝光于偏振紫外线,并且将所述组合物加热至比所述(A)光反应性高分子液晶表现出液晶性的温度范围的下限值低50℃的温度以上,从而所述(B)低分子液晶具有规定的取向性。

2.根据权利要求1所述的光学元件,其中,在所述III)液晶层与所述IV)第二透明基体层之间还具有V)取向处理过的第二液晶取向膜层。

3.根据权利要求2所述的光学元件,其中,所述II)第一液晶取向膜层和/或所述V)第二液晶取向膜层的锚定能不足2.5×10-3J/m2

4.根据权利要求1或2所述的光学元件,其中,所述III)液晶层的光反应性液晶组合物中,(A)光反应性高分子液晶与(B)低分子液晶的重量比((A)光反应性高分子液晶:(B)低分子液晶)为3:97~20:80。

5.根据权利要求1或2所述的光学元件,其中,所述(A)光反应性高分子液晶具有发生(A-1)光交联反应的光反应性侧链。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于公立大学法人兵库县立大学;国立大学法人长冈技术科学大学;日产化学工业株式会社,未经公立大学法人兵库县立大学;国立大学法人长冈技术科学大学;日产化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680071819.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top