[发明专利]用于制作安全文件的方法

权利要求书

1.一种用于制作第一安全文件的方法，所述安全文件包括：

透明基底；

第一图像元件周期阵列，所述第一图像元件周期阵列被应用至所述基底的第一表面且在第一方向上延伸；以及

第一显露元件周期阵列，所述第一显露元件周期阵列被应用至所述基底的相对表面且在第二方向上延伸，所述第一显露元件周期阵列与所述第一图像元件周期阵列叠加，使得可以在至少第一视角与第二视角之间观察到光学可变效果，

所述方法包括如下步骤：

a.确定莫尔带的一个或多个特性，由于所述第一方向与所述第二方向不同，所以在所述安全文件相对于观察者在至少所述第一视角与所述第二视角之间移动期间，所述莫尔带能够或者会被观察到过渡越过所述第一图像元件周期阵列；

b.将所述第一图像元件周期阵列和/或所述第一显露元件周期阵列的至少一个维度约束为小于所述莫尔带中的至少一个的宽度；以及

c.使得如在步骤(b)中陈述的那样被约束的所述第一图像元件周期阵列和所述第一显露元件周期阵列被制作作为所述安全文件的一部分。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，莫尔带的所述一个或多个特性是通过如下方式在步骤a中被确定：

制作包括第二显露元件周期阵列和第二图像元件周期阵列的校准安全文件，所述第二显露元件周期阵列和所述第二图像元件周期阵列与所述第一图像元件周期阵列和所述第二图像元件周期阵列相同，只是其在充足区上延伸以便能够在所述安全文件的所述移动期间观察到莫尔带过渡越过所述图像元件；以及

测量所观察到的莫尔带的所述一个或多个特性。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，莫尔带的所述一个或多个特性是通过如下方式在步骤a中被确定：

确定可能在制作所述第一安全文件期间由一个或多个制作步骤引入的在所述第一图像元件周期阵列与所述第一显露元件周期阵列之间的最大偏斜；以及

从所述最大偏斜来推导莫尔带的所述一个或多个特性。

4.根据权利要求2或者3中任一项所述的方法，其中，莫尔带的所述一个或多个特性包括如下任何一个或多个：

表示最小莫尔带的宽度的莫尔周期或者其它值；以及

表示所述莫尔带从所述第一方向的角度偏移的特性的莫尔角。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中：

所述显露元件周期阵列显露来自所述第一视角的第一图像通道和来自所述第二视角的第二图像通道；并且

所述或者每个图像元件周期阵列包括形成能够在所述第一图像通道中看到的第一图像的第一组图像元件。

6.根据权利要求5所述的方法，其中：

所述或者每个图像元件周期阵列进一步包括形成能够在所述第二图像通道中看到的第二图像的第二组图像元件。

7.根据权利要求5或者6中任一项所述的方法，其中：

所述第一显露元件周期阵列显露来自第三视角的第三图像通道；并且

所述或者每个图像元件周期阵列包括形成能够在所述第三图像通道中看到的第三图像的第三组图像元件。

8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中：

所述显露元件是用于放大所述图像元件的透镜元件。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其中：

所述显露元件是线。