[发明专利]光透过性层叠体及光透过性层叠体的制造方法在审

专利信息
申请号: 201680073827.2 申请日: 2016-11-25
公开(公告)号: CN108367540A 公开(公告)日: 2018-08-03
发明(设计)人: 犬塚正隆;铃木善丈;后藤修;高尾裕三;楢崎徹司;片山和孝 申请(专利权)人: 住友理工株式会社
主分类号: B32B15/08 分类号: B32B15/08;G02B5/26
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨贝贝;臧建明
地址: 日本爱知*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光透过性 层叠体 高折射率 聚合物 质量份 高折射率薄膜层 金属薄膜层 流平剂 高折射率薄膜 光透过性基板 官能基 接着性 折射率 成膜 制造
【说明书】:

本发明提供一种即便在短时间成膜的情况下也满足高折射率薄膜的光透过性及接着性的光透过性层叠体及其制造方法。一种光透过性层叠体10,其依序具有金属薄膜层16、折射率高于金属薄膜层16的高折射率薄膜层14、光透过性基板12,高折射率薄膜层14含有高折射率聚合物及流平剂,高折射率聚合物具有包含选自N、O、S中的至少一种元素的官能基,流平剂的含量相对于高折射率聚合物100质量份而为0.20质量份~20.32质量份的范围内。

技术领域

本发明涉及一种光透过性层叠体及光透过性层叠体的制造方法,更详细而言涉及一种隔热性或绝热性优异的光透过性层叠体及光透过性层叠体的制造方法。

背景技术

有时在大厦·住宅等建筑物的窗玻璃或汽车等车辆的窗玻璃等中出于遮蔽日照的目的而施工有具有隔热性的光透过性层叠膜(光透过性层叠体)。且提出有形成有机薄膜作为光透过性层叠体的高折射率薄膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:国际公开2014/208745

发明内容

发明所要解决的课题

在减少制造成本时要求高折射率薄膜的短时间成膜。在通过利用涂敷的短时间成膜而形成纳米级的高折射率薄膜的情况下,薄膜表面的凹凸变大,光透过性下降。若在此处例如添加流平剂,则与金属薄膜的接着性下降。

本发明所要解决的课题在于提供一种即便在短时间成膜的情况下也满足高折射率薄膜的光透过性及接着性的光透过性层叠体及其制造方法。

解决课题的技术手段

为了解决所述课题,本发明的光透过性层叠体的主旨在于:依序具有金属薄膜层、折射率高于所述金属薄膜层的高折射率薄膜层、光透过性基板,所述高折射率薄膜层含有高折射率聚合物及流平剂,高折射率聚合物具有包含选自N、O、S中的至少一种元素的官能基,所述流平剂的含量相对于所述高折射率薄膜层的聚合物100质量份而为0.20质量份~20.32质量份的范围内。

所述金属薄膜层优选为包含银或银合金。优选为在所述金属薄膜层与所述高折射率薄膜层之间配置有包含金属或金属氧化物的阻挡薄膜。所述高折射率薄膜层优选为进而含有交联聚合物。所述流平剂优选为包含氟系化合物。所述光透过性基板优选为包含聚烯烃膜。所述阻挡薄膜优选为包含钛或钛氧化物。所述高折射率聚合物优选为具有三嗪环的聚合体。

而且,本发明的光透过性层叠体的制造方法为所述记载的光透过性层叠体的制造方法,其主旨在于具有:在所述光透过性基板上形成所述高折射率薄膜层的步骤;以及在该高折射率薄膜层上形成所述金属薄膜层的步骤;所述高折射率薄膜层是将包含所述高折射率聚合物、所述流平剂及溶媒的涂敷液涂敷至所述光透过性基板上后,去除所述溶媒而形成。

所述溶媒优选为包含所述高折射率聚合物的良溶媒与沸点120℃以下的低沸点溶媒。所述低沸点溶媒优选为所述高折射率聚合物的不良溶媒。所述良溶媒与所述低沸点溶媒的混合比例优选为以质量比计为良溶媒/低沸点溶媒=50/50~80/20。优选为所述涂敷液进而包含交联性化合物,在形成所述高折射率薄膜层的步骤中对该交联性化合物进行交联。所述交联性化合物优选为通过光交联而进行交联。

发明的效果

根据本发明的光透过性层叠体,高折射率薄膜层含有所述高折射率聚合物及流平剂,流平剂的含量为特定范围,因此即便在短时间成膜的情况下也满足高折射率薄膜的光透过性及接着性。

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