[发明专利]可延伸的阻挡膜、采用其的制品及其制造方法

说明书

本发明提供了一种阻挡膜，所述阻挡膜包括阻挡层，所述阻挡层具有两个相对主表面；第一有机层，所述第一有机层与所述阻挡层的所述相对主表面中的一个直接接触；第二有机层，所述第二有机层与所述阻挡层的所述相对主表面中的另一个直接接触；以及基材，所述基材与所述第一有机层或所述第二有机层直接接触；其中所述阻挡层包括平均间距小于所述第一有机层或所述第二有机层中的屈曲变形的平均间距的屈曲变形。

技术领域

本公开涉及阻挡膜。本公开还提供了采用这些阻挡膜的制品和制造这些阻挡膜的方法。

背景技术

许多电子装置对环境气体和液体很敏感，并且容易在环境气体和液体诸如氧气和水蒸汽渗透时降解。无机或杂化无机/有机层已在用于电学、包装和装饰性应用的薄膜中使用以防止降解。例如，可使用无机或杂化无机/有机层的多层叠堆来制造抵抗水分渗透的阻挡膜。也已经开发出多层阻挡膜以保护敏感材料免受由于水蒸汽造成的损坏。水敏感材料可以是电子部件诸如有机、无机、和杂化的有机/无机半导体器件。尽管现有技术可能是有用的，但仍需要用于包装电子部件的更好的阻挡膜。

发明内容

在一个方面，本公开提供了一种阻挡膜，该阻挡膜包括：阻挡层，该阻挡层具有两个相对主表面；第一有机层，该第一有机层与阻挡层的相对主表面中的一个直接接触；第二有机层，该第二有机层与阻挡层的相对主表面中的另一个直接接触；以及基材，该基材与第一有机层或第二有机层直接接触；其中阻挡层包括平均间距小于第一有机层或第二有机层中的屈曲变形的平均间距的屈曲变形。

在另一个方面，本公开提供了一种阻挡膜，该阻挡膜包括：阻挡层，该阻挡层具有两个相对主表面，其中阻挡层包括屈曲变形；第一有机层，该第一有机层与阻挡层的相对主表面中的一个直接接触；第二有机层，该第二有机层与阻挡层的相对主表面中的另一个直接接触；以及基材，该基材与第一有机层或第二有机层直接接触；其中第一有机层和第二有机层中的每个具有与阻挡层的形状适形的适形表面；并且其中第一有机层和第二有机层中的每个具有被设置成与适形表面相对并且与该适形表面间隔开的基本上平坦的表面。

在另一方面，本公开提供了一种制品，该制品包括设置在本公开的阻挡膜上的装置，其中该阻挡膜相对于其未拉伸状态被拉伸至不小于1％。

在另一个方面，本公开提供了一种制造本公开的阻挡膜的方法，该方法包括：在第一有机层和第二有机层之间沉积阻挡层以形成层状结构；以及向层状结构施加热。

已汇总了本公开的示例性实施方案的各个方面和优点。以上发明内容并不旨在描述本公开的每个例示的实施方案或每种实施方式。另外的特征和优点在如下实施方案中公开。下面的附图和具体实施方式更具体地举例说明了使用本文所公开的原理的某些实施方案。

定义

对于以下给出定义的术语，除非基于以下定义中使用的术语的修改形式的具体引用，在权利要求中或在说明书中的其它地方提供了不同的定义，否则整个说明书、包括权利要求都应该以这些定义为准：

术语“一个”、“一种”和“所述”包括多个指代物，除非内容另外清楚指明。因此，例如，提及包含“一种化合物”的材料包含两种或更多种化合物的混合物。

术语“层”是指在基材上的或覆盖基材的任何材料或材料的组合。

描述一个层相对于另一个层和基材或两个其它层的位置的术语“由…隔开”意指所描述的层在一个或多个其它层和/或基材之间，但不一定与一个或多个其它层和/或基材接续。

术语“(共)聚合物”或“(共)聚合物的”包括均聚物和共聚物，以及可例如通过共挤出法或通过反应(包括例如，酯交换反应)以相容共混物形式形成的均聚物或共聚物。术语“共聚物”包括无规共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物和星形共聚物。

附图说明

结合附图来考虑本公开的各种实施方案的以下详细描述可更全面地理解本公开，其中：