[发明专利]包括多孔径成像装置的装置、用于制造其的方法和用于检测全视场的方法

权利要求书

1.一种包括多孔径成像装置的装置(10；20；30；40；50；60；70；90；100；130)，包括：

壳体(22)；以及

多孔径成像装置(11；140；150；180)，包括：

彼此相邻布置的光通道(16a-d；16N)的阵列(14)；以及

光束偏转构件(18)，用于偏转所述光通道(16a-d；16N)的光路(17a-d)；

其中所述壳体(22)的外表面(23)在所述装置的第一操作状态中围成壳体体积(24)，其中所述光束偏转构件(18)在所述装置的所述第一操作状态中包括所述壳体体积(24)内的第一位置，

其中所述光束偏转构件(18)在所述装置的第二操作状态中包括第二位置，在所述第二位置处所述光束偏转构件(18)被至少部分地布置在所述壳体体积(24)的外部；以及

其中，在从所述第一操作状态至所述第二操作状态的转换中，所述光通道(16a-d；16N)的光学器件(64a-b)和图像传感器(12)与所述光束偏转构件(18)一起以平移方式移动；

以及以下中的至少一个：

其中，所述光束偏转构件(18)被机械地连接至位移支架(47)，所述位移支架(47)沿移动的平移方向(x)是可移动的，以在所述第一位置和所述第二位置之间移动所述光束偏转构件(18)；

其中，所述光通道(16a-d；16N)的光学器件(64a-d)的透镜(82a-h，84a-d)由一个或数个透镜保持器安装至至少一个基板(66)的主侧面(66a-b)，并经由所述至少一个基板(66)机械连接，其中多个光通道(16a-d；16N)的光路(17a-d)穿过所述至少一个基板(66)；

其中，所述光束偏转构件(18)包括第一定位和第二定位，所述光束偏转构件(18)在所述第一定位和所述第二定位之间是可移动的，其中所述光束偏转构件(18)用于在所述第一定位和所述第二定位中将每个光通道的光路(17a-d)偏转至相互不同的方向(19a-b)；以及其中，所述光束偏转构件(18)包括第一位置中的第三定位，其中所述光束偏转构件(18)在所述第三定位中包括延伸(B)，所述延伸(B)垂直于与所述阵列(14)的线延伸方向(z，146)并平行于所述光通道(16a-d；16N)撞击到其上的图像传感器(12)的表面，其中所述延伸(B)在所述第三定位中小于在所述第一定位和所述第二定位中；

其中，所述位移支架(47)的所述至少一个透明区域(36a)和与透明区域(36a)相对的所述位移支架(47)的侧面(36b)之间的距离(48，48')是可变的，且其中所述距离(48，48')在所述光束偏转构件(18)的所述第一位置中小于在所述光束偏转构件(18)的所述第二位置中；其中，所述光束偏转构件(18)被形成为沿所述光通道(16a-d；16N)的阵列(14)的线延伸方向(z；146)布置的刻面(68a-d；68i)的阵列；其中，偏转每个光通道的光路(17a-d)的偏转角基于所述光束偏转构件(18)的支撑基板(123)相对于所述光通道(16a-d；16N)撞击到其上的图像传感器(12)的设置角并基于面对所述图像传感器(12)的所述光束偏转构件(18)的表面的与光通道(16i)相关联的反射刻面(68i)相对于所述支撑基板(123)的倾斜所述倾斜在所述光通道(16a-d；16N)之间变化；以及

包括调整构件(116)，用于通道单独地改变各自的光通道(16a-d；16i)的图像传感器区域(58a-d)、各自的光通道的至少一个光学器件(64a-d)和所述光束偏转构件(18)之间的相对位置，或用于通道单独地改变各自的光通道(16a-d；16i)的至少一个光学器件(64a-d)或与偏转所述各自的光通道的光路(17a-d)相关的所述光束偏转构件(18)的部分(68a-d；68i)的光学特性；以及具有存储的用于所述调整构件的默认值的存储器(118)和/或用于将反映所述装置当前情形的传感器数据转换为用于通道单独地驱动所述调整构件(116)的默认值的控制器(122)。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，每个光通道(16a-d；16N)包括用于对各自的局部视场进行成像的光学器件64a-d，并且一组光学通道覆盖全视场；其中所述装置包括被配置为合并或融合所述光学通道的图像以形成对应于所述全视场中的场景的全图像的处理器。