[发明专利]使用低能量的臭氧水处理系统

权利要求书

1.一种使用低能量的臭氧水处理系统，其包括：

供水管，通过所述供水管输送和供应待处理的且同时具有能量的原水；

气体注入器，所述气体注入器用于将臭氧气体以微泡形式分散和注入到由所述供水管供应的原水中；

低能量使用型气-液接触反应器，所述低能量使用型气-液接触反应器用于促进在由所述气体注入器供应和输送的臭氧混合水内的所述原水和所述臭氧气体之间的接触反应；和

浇灌型保留槽和用于排放的排放管，所述浇灌型保留槽用于通过连续输送已经进行了反应处理的经处理水而促进反应，

其中所述浇灌型保留槽包括上、下、左和右挡板壁，或上和下挡板壁，所述挡板壁能够形成用于促进反应的涡流。

2.根据权利要求1所述的使用低能量的臭氧水处理系统，其特征在于，所述低能量使用型气-液接触反应器包括选自板式混合反应器、多重注入反应器和分割剪切反应器中的一种或多种组合。

3.根据权利要求1或2所述的使用低能量的臭氧水处理系统，其特征在于，将通过所述供水管供应的所述原水通过由落差产生的势能来加压和输送。

4.根据权利要求1或2所述的使用低能量的臭氧水处理系统，其还包括供水泵，所述供水泵用于将能量供应至所述原水并且送出所述原水。

5.根据权利要求1或2所述的使用低能量的臭氧水处理系统，其还包括原水槽，所述原水槽用于储存所述原水并且将所述原水供应至所述供水管。

6.根据权利要求1或2所述的使用低能量的臭氧水处理系统，其还包括：臭氧发生器，所述臭氧发生器用于产生和供应要供应至所述气体注入器中的臭氧气体，和臭氧供应管，所述臭氧供应管用于将由所述臭氧发生器供应的所述臭氧气体输送和供应至所述气体注入器。

7.根据权利要求1或2所述的使用低能量的臭氧水处理系统，其还包括气体供应管，所述气体供应管用于产生和供应除要供应至所述气体注入器中的臭氧气体之外的氧气和氯气。

8.根据权利要求1或2所述的使用低能量的臭氧水处理系统，其中所述气体注入器的类型包括膜式气体注入器、微泡型气体注入器或可以在穿孔型注入器的主管道内的整个管道面积处直接并均匀地注入并且由诸如STS304、STS316、STS316L、Astel Louis、PP、PE之类的材料制成的气体注入器。

9.根据权利要求1或2所述的使用低能量的臭氧水处理系统，其中以微泡形式注入的所述臭氧气体以借助板式混合反应器和多重注入反应器的复合方式使用以促进接触反应，然后通过超声波发生器发生超声空化现象以进一步促进所述接触反应，由此可以同时实现根据臭氧和原水的二次接触反应以及超声波的水处理效果。

10.根据权利要求1或2所述的使用低能量的臭氧水处理系统，其特征在于，其还包括侧流构造，所述侧流构造用于将辅助管道添加至所述气体注入器，用于通过使用泵使流入物的一部分流动至所述辅助管道，并且用于通过使用喷射器注入气体，所述接触反应可以通过在所述辅助管道的后端使用处于复合形式的一个或多个所述板式混合反应器和所述多重注入反应器来促进，并且促进的气-液水再次移动到所述气体注入器中以进行混合。

11.根据权利要求1或2所述的使用低能量的臭氧水处理系统，其还包括：排放水槽，所述排放水槽用于储存由所述排放管排放的经处理水；和注入装置，所述注入装置配置在所述排放管的端部以将所述经处理水注入到在所述排放水槽内的水中。

12.根据权利要求1或2所述的使用低能量的臭氧水处理系统，其还包括主反应器，所述主反应器用于促进在由所述低能量使用型气-液接触反应器供应的臭氧混合水内的所述臭氧气体和所述原水之间的接触反应，并且将已经进行了反应处理的经处理水供应至所述排放管。