[发明专利]图案形成用自身组织化组合物及图案形成方法有效
申请号: | 201680075799.8 | 申请日: | 2016-09-29 |
公开(公告)号: | CN109071823B | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 森田和代 | 申请(专利权)人: | 王子控股株式会社 |
主分类号: | C08G81/00 | 分类号: | C08G81/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 玉昌峰;纪秀凤 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图案 形成 自身 组织 组合 方法 | ||
1.一种图案形成用自身组织化组合物,其特征在于含有嵌段共聚物,该嵌段共聚物含有:聚合部a,其具有下述通式所表示的构造;与聚合部b,其包含2单位以上的选自含芳香环单位、含硅单位及含金属错合物中的至少1种,
R1分别独立地表示氢原子、烷基、酰基、芳基或磷酸基;R5分别独立地表示氢原子或烷基;X分别独立地表示单键或连结基;Y分别独立地表示连结基;p表示2以上且1500以下的整数。
2.根据权利要求1所述的图案形成用自身组织化组合物,其中,所述聚合部b含有所述含芳香环单位。
3.根据权利要求1所述的图案形成用自身组织化组合物,其中,所述聚合部b含有含苯环单位。
4.根据权利要求1所述的图案形成用自身组织化组合物,其中,所述聚合部b含有苯乙烯系聚合体。
5.根据权利要求1所述的图案形成用自身组织化组合物,其中,所述嵌段共聚物由下述通式表示;
R1分别独立地表示氢原子、烷基、酰基、芳基或磷酸基;R2表示氢原子或取代基,R3表示氢原子或取代基,R4表示氢原子、卤素原子、羟基、烷基、酰基、三甲基硅烷基或1,1,2,2,2-五甲基二硅烷基,R5表示氢原子或烷基;X分别独立地表示单键或连结基;Y分别独立地表示连结基;Z表示单键或连结基;p表示2以上且1500以下的整数,q表示2以上且3000以下的整数,r表示0以上且5以下的整数。
6.根据权利要求1所述的图案形成用自身组织化组合物,还包含有机溶剂。
7.根据权利要求1所述的图案形成用自身组织化组合物,还包含离子液体。
8.一种图案形成方法,其包括:将权利要求1至7中任一项所述的图案形成用自身组织化组合物涂布于基板上,借由自身组织化相分离而形成自身组织化膜的步骤;与蚀刻步骤。
9.根据权利要求8所述的图案形成方法,其中,所述蚀刻步骤为干式蚀刻步骤。
10.根据权利要求8或9所述的图案形成方法,其中,在形成所述图案的步骤前,还包括在所述基板上形成导向图案的步骤。
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