[发明专利]图案形成用自身组织化组合物及图案形成方法

权利要求书

1.一种图案形成用自身组织化组合物，其特征在于含有嵌段共聚物，该嵌段共聚物含有：聚合部a，其具有下述通式所表示的构造；与聚合部b，其包含2单位以上的选自含芳香环单位、含硅单位及含金属错合物中的至少1种，

R¹分别独立地表示氢原子、烷基、酰基、芳基或磷酸基；R⁵分别独立地表示氢原子或烷基；X分别独立地表示单键或连结基；Y分别独立地表示连结基；p表示2以上且1500以下的整数。

2.根据权利要求1所述的图案形成用自身组织化组合物，其中，所述聚合部b含有所述含芳香环单位。

3.根据权利要求1所述的图案形成用自身组织化组合物，其中，所述聚合部b含有含苯环单位。

4.根据权利要求1所述的图案形成用自身组织化组合物，其中，所述聚合部b含有苯乙烯系聚合体。

5.根据权利要求1所述的图案形成用自身组织化组合物，其中，所述嵌段共聚物由下述通式表示；

R¹分别独立地表示氢原子、烷基、酰基、芳基或磷酸基；R²表示氢原子或取代基，R³表示氢原子或取代基，R⁴表示氢原子、卤素原子、羟基、烷基、酰基、三甲基硅烷基或1,1,2,2,2-五甲基二硅烷基，R⁵表示氢原子或烷基；X分别独立地表示单键或连结基；Y分别独立地表示连结基；Z表示单键或连结基；p表示2以上且1500以下的整数，q表示2以上且3000以下的整数，r表示0以上且5以下的整数。

6.根据权利要求1所述的图案形成用自身组织化组合物，还包含有机溶剂。

7.根据权利要求1所述的图案形成用自身组织化组合物，还包含离子液体。

8.一种图案形成方法，其包括：将权利要求1至7中任一项所述的图案形成用自身组织化组合物涂布于基板上，借由自身组织化相分离而形成自身组织化膜的步骤；与蚀刻步骤。

9.根据权利要求8所述的图案形成方法，其中，所述蚀刻步骤为干式蚀刻步骤。

10.根据权利要求8或9所述的图案形成方法，其中，在形成所述图案的步骤前，还包括在所述基板上形成导向图案的步骤。