[发明专利]有机-无机粘合剂组合物、包含其的气体阻挡膜及其生产方法

权利要求书

1.一种有机-无机粘合剂组合物，包含硅烷化合物和基于异氰酸酯的化合物。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中所述硅烷化合物为具有选自以下的至少一种或更多种官能团的硅烷：乙烯基、环氧基、甲基丙烯酰氧基、丙烯酰氧基、氨基和异氰酸酯基。

3.根据权利要求1所述的组合物，其中所述基于异氰酸酯的化合物包含选自以下的至少一者或更多者：具有异氰酸酯基的单体、低聚物或聚合物。

4.一种气体阻挡膜，其通过依次层合以下来形成：

透明基底；

无机气体阻挡层；以及

通过涂覆根据权利要求1至3所述的有机-无机粘合剂组合物形成的透明有机-无机粘合层。

5.根据权利要求4所述的气体阻挡膜，其中所述透明有机-无机粘合层与所述无机气体阻挡层形成硅氧烷键。

6.根据权利要求4所述的气体阻挡膜，其中所述透明有机-无机粘合层包含能够与有机材料反应的官能团。

7.根据权利要求6所述的气体阻挡膜，其中所述官能团包含选自以下的至少一者或更多者：羟基、羧基、丙烯酸基、异氰酸酯基、胺基、酰胺基、脲基、环氧基和硫醇基。

8.根据权利要求4所述的气体阻挡膜，其中所述透明有机-无机粘合层的厚度为0.05μm至10μm。

9.根据权利要求4所述的气体阻挡膜，其中所述无机气体阻挡层由选自以下的至少一者制成：包含Si、Al、Ti、Zr和Ta的金属，或者包含所述金属的金属氧化物、金属氮化物或金属氮氧化物。

10.根据权利要求4所述的气体阻挡膜，其中所述无机气体阻挡层的厚度为5nm至200nm。

11.根据权利要求4所述的气体阻挡膜，其中所述透明基底是包含选自以下的至少一者或更多者的单层或多层结构：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚芳酯、聚碳酸酯、聚醚酰亚胺、聚酰胺-酰亚胺、聚酰亚胺和聚苯并唑。

12.一种用于生产气体阻挡膜的方法，所述方法包括：

提供透明基底；

在所述透明基底的一个表面上形成无机气体阻挡层；

生产根据权利要求1至3中任一项所述的有机-无机粘合剂组合物；以及

通过在所述无机气体阻挡层上印刷或涂覆所述有机-无机粘合剂组合物来形成透明有机-无机粘合层。