[发明专利]有机硅相容的化合物

说明书

本发明涉及由下式I表示的化合物：其中：R¹、R²、R³、R⁴和R⁵为相同或不同的，且选自以下组：SIL₁‑X、氢、C₁‑C₂₀烷基、C₂‑C₈烯基、C₅‑C₈环烷基、苯基C₁‑C₃烷基和氟；X是任选存在的，并且如果存在的话是C₁‑C₁₂烷基；SIL₁具有以下通式：(R⁷SiO_3/2)_a(R⁷₂SiO_2/2)_b(R⁷₃SiO_1/2)_c其中：R⁷选自以下组：C₁‑C₂₀烷基、C₂‑C₈烯基、C₅‑C₈环烷基、烷氧基、苯基和苯基C₁‑C₃烷基；a是正数，b是0或正数，c是0或正数，b/a是0至100，以及c/a是0至10，其中R¹、R²、R³、R⁴和R⁵中的至少一个是SIL₁‑X；并且R⁶选自以下组：C₁‑C₂₀烷基、C₂‑C₈烯基、C₅‑C₈环烷基、苯基、苯基C₁‑C₃烷基、三甲基苯酚和氟，还涉及一种生产这些化合物的方法，以及它们作为光引发剂的用途。

技术领域

本发明涉及基于与有机硅化学键合的α-羟基-烷基酰苯基团的新型有机硅相容的化合物，通过简单的反应机制生产它们，及其作为光引发剂的用途。本发明的化合物吸收在光学透明显示器应用中不被覆盖层所吸收的较长波长紫外光范围(UVV)(即约390纳米或更长的波长)内的光。本发明的化合物在有机硅中也是透明且高度可溶的。因此，本发明的化合物特别可用于引发包含具有不饱和自由基可固化官能团的有机硅的组合物的光固化。由于其显著的稳定性，本发明的化合物不会引起起雾或黄变，并且可用于例如制备光学透明的有机硅密封剂和涂料以及光学透明显示器。

背景技术

包含易于发生自由基反应的官能团的单体或低聚物的光致聚合是聚合物生产中广泛使用的技术。为了引发反应，光引发剂通常加入到单体或低聚物中，然后将混合物暴露于电磁辐射下。许多光引发剂是可用的，它们可以很容易溶于不饱和有机树脂中并有效地固化它们。然而，许多这些光引发剂在有机硅中溶解性差，因此固化效果不理想。这种光引发剂在储存期间与有机硅基质分离，导致在所生产的任何固化产品中严重的混浊。如果产品打算用于光学透明显示器应用，这是不可接受的。为了增加在有机硅中的溶解度并因此增加与有机硅的相容性，已经提出将光引发剂与有机聚硅氧烷或硅烷化学键合。

美国专利4,273,907公开了一类新型有机聚硅氧烷化合物，其包含至少一个与有机聚硅氧烷分子的硅原子化学键合的安息香基团。这样的化合物可以通过在适当的反应促进剂或缩合催化剂存在下，相应地具有与硅键合的卤素原子、氢原子、羟基或烷氧基的有机聚硅氧烷与安息香化合物之间的脱氢卤化、脱氢、脱水或脱醇缩合反应来制备。它们可溶于有机硅组合物并可用作光固化有机聚硅氧烷组合物中的光敏剂。然而，这些化合物没有显示出足够的稳定性，并且在长时间暴露于热和/或UV辐射时容易引起黄变。因此，它们不适合用于高性能透明涂料、封装剂或密封剂中。