[发明专利]具有二维光谱的光谱仪有效

专利信息
申请号: 201680078796.X 申请日: 2016-12-20
公开(公告)号: CN108738335B 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 斯特凡·明希;米夏埃尔·奥克鲁斯 申请(专利权)人: 耶拿分析仪器股份公司
主分类号: G01J3/14 分类号: G01J3/14;G01J3/18;G01J3/02;G01J3/28
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 张焕生;戚传江
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 二维 光谱 光谱仪
【权利要求书】:

1.一种具有二维光谱的光谱仪装置(10),包括:

(a)第一色散元件(31),用于主色散方向上辐射的光谱分解,其中所述主色散方向上的色散元件是阶梯光栅,

(b)成像光学器件(17),用于在图像平面成像穿过入口缝(15)进入所述光谱仪装置(10)的辐射,以产生二维光谱,

(c)检测器阵列(39),具有在所述图像平面中二维布置的多个检测器元件,以及

(d)第二色散元件(21),用于利用交叉色散方向上辐射的光谱分解进行级次间隔,所述交叉色散方向与所述第一色散元件(31)的主色散方向形成角度,使得能够产生二维光谱,

其特征在于,

(e)包括反光镜、折射镜、透镜阵列的光学部件被布置于光束路径中被分散的单色光束彼此分离的位置,以及

(f)包括所述反光镜、所述折射镜、所述透镜阵列的所述光学部件具有自由曲面形式的表面,因此使得由成像误差引起的所述图像平面中在不同波长的情况下所述入口缝的选定图像所占据的面积在所述二维光谱的选定光谱区上被优化,并且

其中自由曲面被布置在光束路径中的一位置处,所选定的单色光束在所述位置处的光束横截面积与其同样被第二单色光束占据的面积部分之间的算术反比小于在相机反射镜处,其中仍然平行的光束在所述相机反射镜处聚焦到具有检测器的图像平面中。

2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述自由曲面被实现成使得成像误差引起的所述图像平面中针对不同波长的所述入口缝的选定图像的共焦成像的整体偏差在所述二维光谱的选定光谱区内最小化。

3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述光谱仪是采用内部级次间隔的阶梯光谱仪。

4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,反射、折射或衍射表面被布置在所述光束路径中使得与同一个阶梯衍射级次相关联的至少两个单色光束被完全间隔开和/或不属于同一个阶梯衍射级次的至少两个单色光束被完全间隔开的位置,并且所述反射、折射或衍射表面被实施为自由曲面,该自由曲面使得用于二维阶梯光谱的选定波长范围上彼此独立的各个单色光束的检测器上的共焦成像的偏差最小化。

5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所有部件被实现成使得在自由光谱区内相同主色散级次的至少两个波长的单色光束在所述自由曲面的部位完全间隔开,和/或所述入口缝中具有不同缝高度位置的两个点的单色光束在该表面的部位完全间隔开。

6.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述自由曲面被优化成使得所述选定光谱区内所述入口缝的选定图像的RMS函数之和取最小值。

7.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述自由曲面被优化成使得所述选定光谱区内的所述入口缝的选定图像的波前误差之和取最小值。

8.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述自由曲面被优化成使得所述选定光谱区内的所述入口缝的选定图像的面积之和取最小值。

9.根据权利要求1所述的装置(10),其特征在于,具有所述自由曲面的光学元件是位于所述图像平面之前的折叠式反射镜。

10.根据权利要求1所述的装置(10),其特征在于,所述成像光学器件以利特罗布置方式布置。

11.根据权利要求1所述的装置(10),其特征在于,所述第二色散元件是具有同样实施为自由曲面的表面的棱镜,并且所述自由曲面具有的形状使得由所述成像误差引起的所述图像平面中在不同波长的情况下所述入口缝的选定图像的共焦成像的偏差在二维阶梯光谱的选定光谱区内被优化。

12.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,至少一个自由曲面被实现成使得所述级次取所述图像平面中选定的位置并且在所述图像平面中具有均匀的间隔。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于耶拿分析仪器股份公司,未经耶拿分析仪器股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680078796.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top